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SSB500系列步進(jìn)光刻機(jī)品牌
上海微電子產(chǎn)地
上海樣本
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產(chǎn)品特征
出色的污染防護(hù)
全折射式投影物鏡提供了超長(zhǎng)工作距,，以及封閉式的物鏡和照明系統(tǒng),，避免光刻膠等有機(jī)物揮發(fā)造成光路污染。
工藝適應(yīng)性強(qiáng)
厚膠曝光時(shí)可通過(guò)調(diào)整NA來(lái)獲得更大焦深,，支持高深寬比圖形曝光,。擁有獨(dú)特的晶圓傳輸系統(tǒng)、垂向大行程工件臺(tái)系統(tǒng)和精密調(diào)焦調(diào)平系統(tǒng),，可支持Fan-Out制程中的大翹曲片,、鍵合片和厚片曝光工藝?？蛇x配紅外或可見(jiàn)光背面對(duì)準(zhǔn)方式,，支持TSV和MEMS等制程所需的背面對(duì)準(zhǔn)。支持拓展至600mm×600mm方板曝光制程,。
高精度
SSB500系列光刻機(jī)提供多種投影物鏡和曝光光源配置，分辨率可達(dá)到0.8~2μm,，并具有高線寬均勻性,。配置高精度MVS對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)和低畸變投影物鏡，支持特征圖形標(biāo)記和光柵標(biāo)記,，保證了高精度套刻性能,。
高產(chǎn)率
SSB500系列光刻機(jī)配置了高照度照明系統(tǒng)、高速傳輸系統(tǒng),、高速高精度運(yùn)動(dòng)臺(tái)系統(tǒng)和大曝光視場(chǎng),，實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)率，顯著降低客戶擁有成本,。
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