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納米壓印和高分辨率光刻系統(tǒng)
納米壓印和高分辨率光刻系統(tǒng)

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亞銘(北京)科技有限公司

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NX-2600整片基板帶對準可多層次納米壓印加高分辨率光刻系統(tǒng)經(jīng)過了大量的實時實地驗證,,質(zhì)量可靠,,性能優(yōu)越穩(wěn)定。具備全部壓印模式:熱固化,、紫外固化和壓印,。基于獨特**保護的Nanonex氣墊軟壓技術(shù)(ACP),,不論模版或基板背面粗糙程度如何,,或是模版或基板表面波浪和弧形結(jié)構(gòu),NX-2600均可對其校正補償從而獲得****的壓印均勻性,, ACP消除了基板與模版之間側(cè)向偏移,,有效地延長了模版使用壽命。通過微小熱容設(shè)計可獲得快速的熱壓印周期,,*終得到快速的工藝循環(huán),。

主要特點:

所有形式的納米壓印

l熱塑化

l紫外固化

l熱壓與紫外壓印同時進行

l熱固化 氣墊軟壓技術(shù)(ACP)

lNanonex**技術(shù)

l**的整片基板納米壓印均勻性

l高通量 低于10nm分辨率 亞1微米正面對準精度 背面對準可選項 快速工藝循環(huán)時間(小于60秒) 靈活性

l4″, 6″,, or 8″壓印面積可選

l各種尺寸及不規(guī)則形狀模板與基板均可壓印

l方便用戶操作 基于超過12年,、15代產(chǎn)品開發(fā)經(jīng)驗的自動化壓印操作 Nanonex壓印系統(tǒng)經(jīng)過大量實時實地驗證,質(zhì)量可靠,,性能優(yōu)越穩(wěn)定 全自動納米壓印

納米壓印系統(tǒng)參數(shù)

熱塑壓印模塊

l溫度范圍0250

l加熱速度>300/分鐘

l制冷速度>150/分鐘

l壓力范圍0 3.8 MPa550 psi

紫外固化模塊

l200W窄帶紫外光源

l365納米或395納米波長可選

l全自動化控制 對準模塊

lX,, Y, Z,, Theta平臺

l分場光學(xué)和CCD相機

基板裝載

l標配納米壓印系統(tǒng)可裝載4″基板

l6″8″基板可選

l各種尺寸及不規(guī)則形狀模板及基板均可壓印

l獨特**保護ACP技術(shù)可**限度保護基板和模板,,特別對于象磷化銦(InP)等極易碎模板和基板給予**限度保護。

光刻

l標配5”模板,,標配4”直徑基板

l其他尺寸可以提供

l500瓦紫外水銀燈光源

應(yīng)用領(lǐng)域:

納米電子和光電子,、顯示器、數(shù)據(jù)存儲介質(zhì),、先進材料,、生物科技、納米流道等

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