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光反射薄膜測(cè)厚儀

原產(chǎn)國：美國

薄膜表面或界面的反射光會(huì)與從基底的反射光相干涉，干涉的發(fā)生與膜厚及折光系數(shù)等有關(guān),，因此可通過計(jì)算得到薄膜的厚度,。光干涉法是一種無損、精確且快速的光學(xué)薄膜厚度測(cè)量技術(shù),，我們的薄膜測(cè)量系統(tǒng)采用光干涉原理測(cè)量薄膜厚度,。

該產(chǎn)品是一款價(jià)格適中、功能強(qiáng)大的膜厚測(cè)量?jī)x器,，近幾年,，每年的全球銷售量都超過200臺(tái)。根據(jù)型號(hào)不同,，測(cè)量范圍可以從10nm到250um,，它**可以同時(shí)測(cè)量4個(gè)膜層中的3個(gè)膜層厚度（其中一層為基底材料）。該產(chǎn)品可應(yīng)用于在線膜厚測(cè)量,、測(cè)氧化物,、SiNx、感光保護(hù)膜和半導(dǎo)體膜,。也可以用來測(cè)量鍍?cè)阡?、鋁、銅,、陶瓷和塑料等上的粗糙膜層,。

應(yīng)用領(lǐng)域

理論上講，我們的光干涉膜厚儀可以測(cè)量所有透光或半透光薄膜的厚度。以下為我們*熟悉的應(yīng)用領(lǐng)域(半導(dǎo)體薄膜,，光學(xué)薄膜涂層,，在線原位測(cè)量，粗糙或弧度表面測(cè)量)：

□ 晶片或玻璃表面的介電絕緣層(SiO2,， Si3N4,， Photo-resist， ITO,， ...),；

□ 晶片或玻璃表面超薄金屬層(Ag， Al,， Au,， Ti， ...),；

□ DLC(Diamond Like Carbon)硬涂層,；SOI硅片；

□ MEMs厚層薄膜(100μm up to 250μm),；

□ DVD/CD涂層,；

□ 光學(xué)鏡頭涂層；

□ SOI硅片,；

□ 金屬箔,；

□ 晶片與Mask間氣層；

□ 減薄的晶片(< 120μm),；

□ 瓶子或注射器等帶弧度的涂層,；

□ 薄膜工業(yè)的在線過程控制；等等…

軟件功能

豐富的材料庫：操作軟件的材料庫帶有大量材料的n和k數(shù)據(jù),，基本上的常用材料都包括在這個(gè)材料庫中,。用戶也可以在材料庫中輸入沒有的材料。

軟件操作簡(jiǎn)單,、測(cè)速快：膜厚測(cè)量?jī)x操作非常簡(jiǎn)單,，測(cè)量速度快：100ms-1s。

軟件針對(duì)不同等級(jí)用戶設(shè)有一般用戶權(quán)限和管理者權(quán)限,。

軟件帶有構(gòu)建材料結(jié)構(gòu)的拓展功能,，可對(duì)單/多層薄膜數(shù)據(jù)進(jìn)行擬合分析，可對(duì)薄膜材料進(jìn)行預(yù)先模擬設(shè)計(jì),。

軟件帶有可升級(jí)的掃描功能,，進(jìn)行薄膜二維的測(cè)試，并將結(jié)果以2D或3D的形式顯示,。軟件其他的升級(jí)功能還包括在線分析軟件,、遠(yuǎn)程控制模塊等。