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光刻機(jī)/紫外曝光機(jī)(Mask Aligner)
光刻機(jī)/紫外曝光機(jī)(Mask Aligner)

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型號(hào)

品牌

產(chǎn)地

韓國(guó)

樣本

暫無(wú)
上海載德半導(dǎo)體技術(shù)有限公司

會(huì)員

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第2年

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儀器簡(jiǎn)介:

光刻機(jī)/紫外曝光機(jī) (Mask Aligner)

原產(chǎn)國(guó): 韓國(guó),,**能做到圖形化藍(lán)寶石襯底(PSS)光刻機(jī),高性?xún)r(jià)比

型號(hào):KCMA-100,;

又名:掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī),,曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng),,光刻機(jī),,紫外曝光機(jī)等;

ECOPIA為全球**的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商,,多年來(lái)致力于掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)和勻膠機(jī)研發(fā)與生產(chǎn),,并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子,、生物器件和納米科技領(lǐng)域,;該公司是目前世界上*早將光刻機(jī)商品化的公司之一,擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力,;并且其設(shè)備被眾多**企業(yè),、研發(fā)中心、研究所和高校所采用,;以?xún)?yōu)秀的技術(shù),、精湛的工藝和良好的服務(wù),贏得了用戶(hù)的青睞,。

感謝南開(kāi)大學(xué),,中科院半導(dǎo)體所,中科院長(zhǎng)春應(yīng)化所,,中科院物理所,,浙江師范大學(xué)使用此設(shè)備做課題研究!,!

此型號(hào)光刻機(jī)是所有進(jìn)口設(shè)備中性能價(jià)格比**的型號(hào),,達(dá)到歐美品牌的對(duì)準(zhǔn)精度,CCD顯示屏對(duì)準(zhǔn)更為方便,,液晶觸摸屏操作,,采用歐司朗紫外燈,壽命長(zhǎng),。整機(jī)效果皮實(shí)耐用,,正常使用3年內(nèi)不會(huì)出問(wèn)題?。?/p>

目前,,上海藍(lán)光已采用該公司全自動(dòng)型光刻機(jī)做LED量化生產(chǎn),,證明其品質(zhì)達(dá)到LED產(chǎn)業(yè)標(biāo)準(zhǔn)要求!,!而且已經(jīng)成功提供圖形化藍(lán)寶石襯底(PSS)光刻工藝設(shè)備.

技術(shù)參數(shù):

- 基片尺寸:4,、6、8,、12,、25英寸,其他尺寸可定制,;

- 光束均勻性:<±3%,;

- 曝光時(shí)間可調(diào)范圍:0.1 to 999.9秒;

- 對(duì)準(zhǔn)精度:0.6-1微米

- 分辨率:1微米,;

- 光束輸出強(qiáng)度:15-25mW/cm2,;

項(xiàng)目技術(shù)規(guī)格
曝光系統(tǒng)(Exposure System)

MDA-400M型

光源功率350W UV Exposure Light source with Power supply
分辨率- Vacuum Contact : 1um ( Thin PR@Si Wafer )

- Hard Contact : 1um

- Soft contact : 2um

- 20um Proximity: 5um

**光束尺寸4.25×4.25 inch
光束均勻性≤ ±3% (4inch standard)
光束強(qiáng)度15~20mW/cm2(365nm Intensity)
曝光時(shí)間可調(diào)整0.1 to 999.9 sec
對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)(Alignment System)對(duì)準(zhǔn)精度1um
對(duì)準(zhǔn)間隙手動(dòng)調(diào)節(jié)(數(shù)字顯示)
光刻模式真空, 硬接觸,, 軟接觸,,漸進(jìn)(Proximity)
卡盤(pán)水平調(diào)節(jié)楔形錯(cuò)誤補(bǔ)償Wedge Error Compensation
真空卡盤(pán)移動(dòng)X, Y: 10 mm,, Theta: ±5°
Z向移動(dòng)范圍10mm
接近調(diào)整步幅1um
樣品(Sample)基底 Substrate2,, 3, 4 inch
掩模板尺寸4 and 5 inch
Utilities真空 Vacuum< -200 mbar (系統(tǒng)包含真空泵)
壓縮空氣 CDA> 5Kg/cm2
氮?dú)?N2>3Kg/cm2
電源 Electricity220V,, 15A,, 1Phase
顯微鏡及顯示器

CCD and Monitor

Dual CCD zoom microscope and LCD (17inch) monitor; Magnification : 80x ~ 1000x;

主要特點(diǎn):

- 光源強(qiáng)度可控;

- 紫外曝光,,深紫外曝光(Option),;

- 系統(tǒng)控制:手動(dòng)、半自動(dòng)和全自動(dòng)控制,;

- 曝光模式:真空接觸模式(接觸力可調(diào)),Proximity接近模式,, 投影模式,;

- 真空吸盤(pán)范圍可調(diào);

- **技術(shù):可雙面對(duì)準(zhǔn),,可雙面光刻,,具有IR和CCD模式

-兩個(gè)CCD顯微鏡系統(tǒng),**放大1000倍,,顯示屏直接調(diào)節(jié),,比傳統(tǒng)目鏡對(duì)準(zhǔn)更方便快捷,,易于操作。

- 特殊的基底卡盤(pán)可定做,;

- 具有楔形補(bǔ)償功能,;

創(chuàng)新點(diǎn)

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用戶(hù)評(píng)論

產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性?xún)r(jià)比

10分
評(píng)論內(nèi)容
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公司動(dòng)態(tài)
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光刻機(jī)/紫外曝光機(jī)(Mask Aligner)信息由上海載德半導(dǎo)體技術(shù)有限公司為您提供,,如您想了解更多關(guān)于光刻機(jī)/紫外曝光機(jī)(Mask Aligner)報(bào)價(jià)、型號(hào),、參數(shù)等信息,,歡迎來(lái)電或留言咨詢(xún)。
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