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自動(dòng)化工業(yè)級(jí)原子力顯微鏡,，助力高分辨率3D測(cè)量

Park Systems推出的NX-3DM全自動(dòng)原子力顯微鏡系統(tǒng),，專為垂懸輪廓、高分辨率側(cè)壁成像和臨界角測(cè)量設(shè)計(jì),。借助獨(dú)有的XY軸和Z軸獨(dú)立掃描系統(tǒng)和傾斜式Z軸掃描器,，NX-3DM成功克服精確側(cè)壁分析中的法向和喇叭形頭所帶來(lái)的挑戰(zhàn)。在True Non-Contact™模式下,，NX-3DM可實(shí)現(xiàn)帶有高長(zhǎng)寬比尖端的柔軟光刻膠的無(wú)損測(cè)量,。

****的精確度

隨著半導(dǎo)體越變?cè)叫?，設(shè)計(jì)如今需要做到納米級(jí),，但是傳統(tǒng)的測(cè)量工具無(wú)法滿足納米級(jí)設(shè)計(jì)和制造所要求的精確度,。面對(duì)這一行業(yè)測(cè)量挑戰(zhàn)，Park原子力顯微鏡取得眾多技術(shù)突破,，如串?dāng)_消除,，其可以實(shí)現(xiàn)無(wú)偽影和無(wú)損成像,；全新的3D原子力顯微鏡，讓側(cè)壁和側(cè)凹特征的高分辨率成像成為可能,。

****的通量

受限于低通量,，納米級(jí)設(shè)計(jì)無(wú)法用于生產(chǎn)質(zhì)量控制中，但原子力顯微鏡讓這一切成為可能,。隨著Park Systems發(fā)布的高通量解決方案,，原子力顯微鏡也得以進(jìn)入自動(dòng)化線上制造領(lǐng)域。這其中包括創(chuàng)新的磁性探針更換功能,，成功率高達(dá)99%,，高于傳統(tǒng)的真空技術(shù)。此外,，流程和通量?jī)?yōu)化需要客戶積極配合,，提供完整的原始數(shù)據(jù)。

****成本效益

納米測(cè)量的精確性和高通量需要搭配高成本效益的解決方案,，才能夠從研究領(lǐng)域擴(kuò)展到實(shí)際生產(chǎn)應(yīng)用中,。面對(duì)這一成本挑戰(zhàn)，Park Systems帶來(lái)了工業(yè)級(jí)的原子力顯微鏡解決方案,，讓自動(dòng)化測(cè)量更快,、更高效，讓探針更耐久,！我們放棄了慢速又昂貴的掃描電子顯微鏡,，轉(zhuǎn)而采用高效、自動(dòng)化且價(jià)格實(shí)惠的3D原子力顯微鏡,，進(jìn)一步降低線上工業(yè)制造的測(cè)量成本?，F(xiàn)如今，制造商需要3D信息來(lái)表現(xiàn)溝槽輪廓和側(cè)壁變異特征,，從而準(zhǔn)確找到新設(shè)計(jì)中的缺陷,。模塊化原子力顯微鏡平臺(tái)實(shí)現(xiàn)快速的軟硬件更換，從而是升級(jí)更劃算,，不斷優(yōu)化復(fù)雜且苛刻的生產(chǎn)質(zhì)量控制測(cè)量,。此外，我們的原子力顯微鏡探針使用壽命延長(zhǎng)至少2倍,，進(jìn)一步減少購(gòu)置成本,。傳統(tǒng)的原子力顯微鏡采用輕敲式掃描,，這讓探針更易磨損，但我們的True Non-Contact™模式能夠有效地保護(hù)探針,，延長(zhǎng)其使用壽命。

*　應(yīng)用

側(cè)壁和側(cè)凹高分辨率成像

側(cè)壁和側(cè)凹臨界尺寸(CD)測(cè)量

NX-3DM的傾斜式Z軸掃描器設(shè)計(jì)讓探針能夠掃描到光刻膠的側(cè)壁和側(cè)凹結(jié)構(gòu),。

·獨(dú)有的XY軸和Z軸解耦掃描系統(tǒng)和傾斜式Z軸掃描器

·Z軸掃描器可在 -19到+19度和-38到+38度之間隨意擺動(dòng)

·法向高長(zhǎng)寬比的探針帶來(lái)高分辨率成像

·XY軸掃描范圍可達(dá)100 μm x 100 μm

·高強(qiáng)度Z軸掃描器帶來(lái)**25 μm的Z軸掃描范圍

完整的側(cè)壁3D測(cè)量

高分辨率側(cè)壁粗糙度

借助超鋒利的探針尖端,，NX-3DM的傾斜式Z軸掃描器可接近側(cè)壁，帶來(lái)高分辨率的側(cè)壁粗糙度細(xì)節(jié),。

·側(cè)壁粗糙度測(cè)量

·精確的側(cè)壁角度測(cè)量

·垂直側(cè)壁的臨界尺寸測(cè)量

True Non-Contact™模式實(shí)現(xiàn)無(wú)損臨界尺寸和側(cè)壁測(cè)量

光刻膠溝槽臨界尺寸測(cè)量

獨(dú)有的True Non-Contact模式能夠線上無(wú)損測(cè)量小至45 nm的細(xì)節(jié),。

·業(yè)內(nèi)*小的細(xì)節(jié)線上測(cè)量

·柔軟光刻膠無(wú)損測(cè)量

·探針磨損更少，讓高質(zhì)量和高分辨率成像效果更佳持久

·無(wú)需輕敲式成像中的參數(shù)依賴結(jié)果

Park NX-3DM的特點(diǎn)

傾斜式Z軸掃描系統(tǒng)

NX-3DM獨(dú)具匠心地將Z軸掃描器傾斜設(shè)計(jì),，且通過(guò)**的串?dāng)_消除原子力顯微鏡平臺(tái),，XY軸與Z軸掃描器完全解耦。用戶可以掃描到垂直側(cè)壁以及各種角度的側(cè)凹結(jié)構(gòu),。與配有喇叭形頭的系統(tǒng)不同,，XE-3DM可使用高分辨率高長(zhǎng)寬比的探針。

全自動(dòng)圖形識(shí)別

借助強(qiáng)大的高分辨率數(shù)字CCD鏡頭和圖形識(shí)別軟件,，Park NX-HDM讓全自動(dòng)圖形識(shí)別和對(duì)準(zhǔn)成為可能,。

自動(dòng)測(cè)量控制

自動(dòng)化軟件讓XE-3DM的操作不費(fèi)吹灰之力。測(cè)量程序針對(duì)懸臂調(diào)諧,、掃描速率,、增益和點(diǎn)參數(shù)進(jìn)行優(yōu)化，為您提供多位置分析,。

真正非接觸模式和更長(zhǎng)的探針使用壽命

得益于**的高強(qiáng)度Z軸掃描系統(tǒng),，XE系列原子力顯微鏡讓真正非接觸模式成為可能。真正非接觸模式借助了原子間的相互吸引力,，而非相互排斥力,。

因此，在真正非接觸模式下,，探針與樣品間的距離可以保持在幾納米,，從而蓋上原子力顯微鏡的圖像質(zhì)量，保證探針尖端的鋒利度,，延長(zhǎng)使用壽命,。

行業(yè)*低的本底噪聲

為了檢測(cè)*小的樣品特征和成像*平的表面，Park推出行業(yè)本底噪聲*低（< 0.5?）的顯微鏡,。本底噪聲是在“零掃描”情況下確定的,。由于懸臂與樣品表面接觸，因此系統(tǒng)噪聲是在如下條件下單點(diǎn)測(cè)量：

? 掃描范圍為0 nm x 0 nm,，探針停留在一個(gè)點(diǎn)

? 0.5增益,，接觸模式

? 256 x 256像素

*　選項(xiàng)

高通量自動(dòng)化

自動(dòng)探針更換(ATX)

借助自動(dòng)探針更換功能,，自動(dòng)測(cè)量程序能夠無(wú)縫銜接。該系統(tǒng)會(huì)根據(jù)參考圖形測(cè)量數(shù)據(jù),，自動(dòng)校正懸臂的位置和優(yōu)化測(cè)量設(shè)定,。創(chuàng)新的磁性探針更換功能，成功率高達(dá)99%,，高于傳統(tǒng)的真空技術(shù),。

自動(dòng)晶片裝卸器(EFEM或FOUP)

您可以在XE-3DM中加裝自動(dòng)晶片裝卸器(EFEM或FOUP或其他)。高精度無(wú)損晶片裝卸機(jī)械臂能夠百分百保證NX-3DM用戶享受到快速且穩(wěn)定的自動(dòng)化晶片測(cè)量服務(wù),。

離子化系統(tǒng)

NX-3DM可搭載離子化系統(tǒng),，以有效消除樣品的靜電電荷。由于系統(tǒng)隨時(shí)可生產(chǎn)和位置正離子和負(fù)離子之間的理想平衡,，便可以穩(wěn)定地離子化帶電物體,，且不會(huì)污染周邊區(qū)域。它也可以消除樣品處理過(guò)程中意外生成的靜電電荷,。