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Park XE7
創(chuàng)新研究的經(jīng)濟(jì)之選
Park XE7配有Park Systems的所有頂尖技術(shù),,而且價(jià)格十分親民。XE7在細(xì)節(jié)的設(shè)計(jì)上也相當(dāng)用心,,是幫助您準(zhǔn)確且不超預(yù)算地完成研究的理想之選,。
****的高性能
在同級(jí)產(chǎn)品中,Park XE7能夠帶來**納米級(jí)分辨率的測量效果,。得益于獨(dú)特的原子力顯微鏡架構(gòu),,即獨(dú)立的XY軸和Z軸柔性掃描器,XE7能夠?qū)崿F(xiàn)平滑,、正交且線性的掃描測量,,從而精確成像和測量樣品的特征。此外,,Park所獨(dú)有的True Non-Contact™模式還能為您帶來****的圖像效果,,探針可以在多次掃描后圖像的分辨率仍不會(huì)受影響。
滿足當(dāng)前和未來需求
在Park XE7的幫助下,,現(xiàn)在與未來皆在您的掌控中,。Park XE7帶有業(yè)內(nèi)*全面的測量模式。這些模式不僅能滿足您目前的需求,,也考慮到未來不斷變化的需求,。再者,XE7具有市場上*為開放性的設(shè)計(jì),,允許您整合其他附件和儀器,,從而滿足您特殊的研究需求。
易于使用和高生產(chǎn)率
Park XE7擁有簡潔的圖形用戶界面和自動(dòng)化工具,,即便是初學(xué)者也可以快速地完成對(duì)樣品的掃描,。無論是預(yù)準(zhǔn)直探針、簡單的樣品和探針更換,、輕松的激光準(zhǔn)直,、自上而下的同軸視角以及用戶友好型掃描控制和軟件處理,XE7能夠全力推動(dòng)研究效率的提高,。
經(jīng)濟(jì)實(shí)惠超越了系統(tǒng)成本
Park XE7不僅僅是**性價(jià)比的研究級(jí)原子力顯微鏡,,也是使用成本*低的原子力顯微鏡。Park XE7中所搭載的True Non-Contact™模式讓用戶無需頻繁更換昂貴的探針尖端,,并且它配有業(yè)內(nèi)*多的掃描模式,,兼容性**,讓您可隨時(shí)升級(jí)系統(tǒng)功能,,從而延長產(chǎn)品的使用壽命
ParkXE7
滿足先進(jìn)研究的創(chuàng)新功能
精確的XY方向掃描,,徹底消除了交叉耦合誤差
■樣品探針和針尖的兩種獨(dú)立閉環(huán)XY和Z平板式掃描
■平板式和線性XY掃描,殘余彎曲誤差極小
■整個(gè)掃描范圍內(nèi)的水平線性誤差小于2nm
■精確的高度測量
Non-ContactTM(真正非接觸TM)模式能夠延長針尖壽命,
提供高分辨率和保護(hù)樣品,。
■其Z伺服速度是壓電管基礎(chǔ)系統(tǒng)的10倍
■非接觸式可降低針尖摩損,、延長使用壽命
■成像分辨率優(yōu)于同類原子力顯微鏡
■增強(qiáng)樣品兼容性,提高掃描速度
*豐富的功能拓展方案
■支持多種SPM模式
■多種可選配測量模式
■多種可選配件及更新,,擴(kuò)展性能優(yōu)越
*為便利的使用設(shè)計(jì)
■開放式樣品空間,,提高樣品及針尖更換效率
■預(yù)對(duì)準(zhǔn)針尖安裝和同軸直視光路直觀地實(shí)現(xiàn)激光對(duì)準(zhǔn)
■燕尾鎖方便鏡頭拆卸
Park XE7
AFM技術(shù)
無掃描器弓形彎曲的平直正交XY軸掃描
Park的串?dāng)_消除技術(shù)不僅改善了掃描器弓形彎曲的缺點(diǎn)還能夠在各種不同掃描位置,掃描速度和掃描尺寸條件下進(jìn)行平直正交的XY軸掃描,。即使是*平坦的樣品也不會(huì)出現(xiàn)如光學(xué)平面,,各種偏移掃描等曲率的背景。由此可以為您在研究中遇到的所有**挑戰(zhàn)性的問題提供高精確度的納米測量,。
無耦合關(guān)系的XY和Z掃描器
Park和競爭對(duì)手*根本的區(qū)別在于掃描器的構(gòu)造,,Park獨(dú)特又獨(dú)立的XY軸與Z軸掃描器設(shè)計(jì)使其達(dá)到了無可比擬的高精度的納米分辨率數(shù)據(jù)。
精確的表面測量
樣品表面平直掃描!
■低殘差弓形彎曲
■無需軟件處理(原始數(shù)據(jù))
■不受掃描位置影響也會(huì)有精確的掃描結(jié)果
真正非接觸模式TM可保護(hù)針尖鋒利度
原子力顯微鏡的針尖本身很脆弱,,在掃描過程中,針尖磨損會(huì)逐漸降圖片質(zhì)量和分辨率,。
測量表面軟的樣品時(shí),,針尖也會(huì)破壞樣品并生成不準(zhǔn)確的樣品高度測量數(shù)據(jù)。
作為Park原子力顯微鏡*獨(dú)特的一種掃描模式,,
真正非接觸模式TM可持續(xù)獲得高分辨率且精確的數(shù)據(jù),,同時(shí)保持針尖的完整性。
ParkXE7
配備創(chuàng)新的AFM技術(shù)
■10 um x 10um掃描范圍的二維柔性導(dǎo)向掃描器
XY軸掃描器含有對(duì)稱的二維柔性和高強(qiáng)度壓電疊堆,,可在保持平面外運(yùn)動(dòng)*少的情況下,,實(shí)現(xiàn)高正交運(yùn)動(dòng)以及納米級(jí)樣品掃描下的高影響度。緊湊且堅(jiān)固的結(jié)構(gòu)是為了低噪聲高速伺服回應(yīng)而設(shè)計(jì)的,。
■柔性導(dǎo)向的高強(qiáng)力Z軸掃描器
憑借著高強(qiáng)度壓電疊堆和柔性結(jié)構(gòu),,其可以允許掃描器以**的速度縱向移動(dòng),這是傳統(tǒng)原子力顯微鏡中掃描器所無法做到的,。**Z軸掃描范圍可從標(biāo)準(zhǔn)的12μm增至40μm(選配件,,長距離Z軸掃描器)。
■滑動(dòng)連接的SLD掃描頭
燕尾式軌道設(shè)計(jì),,輕松更換原子力顯微鏡鏡頭,。該設(shè)計(jì)可將鏡頭自動(dòng)鎖定至預(yù)對(duì)準(zhǔn)的位置,同時(shí)與電路系統(tǒng)連接,,無線纜操作,,重復(fù)定位精度幾奈米。借助低相干性的830nmSLD激光器,,顯微鏡可精確成像并可在皮牛量級(jí)進(jìn)行力-距離曲線獲取,。此外,SLD激光器830nm的波長也消除了環(huán)境光照的干擾,讓用戶可隨意在可見光譜實(shí)驗(yàn)中使用原子力顯微鏡,。
■操作簡易的樣品臺(tái)
開放式設(shè)計(jì)可容納**100mm*100mm*20mm的樣品,,且可輕易從側(cè)面更換樣品和探針。
■手動(dòng)的XY軸樣品臺(tái)
在手動(dòng)XY軸樣品臺(tái)的精確控制下,,樣品的測量定位變得簡單,。 XY軸樣品臺(tái)的行程范圍是13mm x 13mm。
■手動(dòng)的光學(xué)對(duì)焦平臺(tái)
同軸鏡頭可手動(dòng)調(diào)焦,。
以DSP為核心的電路控制系統(tǒng)
原子力顯微鏡的納米級(jí)信號(hào)是由高性能的Park XE電子控制器所控制和處理的,。憑借著低噪聲設(shè)計(jì)和高速處理單元,Park XE電子控制器成功實(shí)現(xiàn)了True Non-ContactTM模式,,這是納米級(jí)成像和精確電壓電流測量的**選擇,。
■高性能DSP,頻率達(dá)600MHz,,處理速度高達(dá)4800MIPS
■低噪聲設(shè)計(jì),,帶來精確的電流電壓測量
■全能系統(tǒng),融合各種掃描探針顯微鏡技術(shù)
■外部信號(hào)獲取模塊,,獲取原子力顯微鏡輸入/輸出信號(hào)
■**16位數(shù)字圖像
■**16位數(shù)字圖像
■16位ADC/DAC,,頻率為500kHz
■利用TCP/IP連接隔離電腦噪聲
Park XE7
世界上*精準(zhǔn)和*容易操作的AFM
10μm x10μm掃描范圍的二維撓性導(dǎo)向掃描器
XY掃描器含系統(tǒng)二維柔性和強(qiáng)力壓電堆疊,全范圍正交移動(dòng)時(shí),,具有業(yè)界*小的水平線性誤差,,并能實(shí)現(xiàn)精確的樣品納米級(jí)掃描。
帶高分辨率的同軸直視光路
同軸直視光路使得用戶直接俯視觀看樣品,,從而很容易就能找到目標(biāo)區(qū)域,。高分辨率CCD具備變焦功能,移動(dòng)過程中可確保清晰的圖像質(zhì)量,。
簡單的探針和樣品更換
獨(dú)特的頭部設(shè)計(jì)讓您能夠輕易地從側(cè)面更換新的探針和樣品,。借助安裝懸臂式探針夾頭中預(yù)先對(duì)齊的懸臂,你無需進(jìn)行繁染的激光校準(zhǔn)工作,。
簡單且敏銳的激光校準(zhǔn)
憑借著我們先進(jìn)的預(yù)校準(zhǔn)懸臂架,,懸臂在裝載時(shí)激光便可聚焦完畢。此外,,自上而下的同軸視角讓您可以輕松地找到激光光點(diǎn),。由于激光垂直照射在懸臂上,您可以憑兩個(gè)定位旋鈕,,將激光光點(diǎn)準(zhǔn)確定位,。這樣,您可以在激光準(zhǔn)直界面中,,輕易地找到激光并將其定位在PSPD上,。此時(shí),您只需要稍微調(diào)整以**化信號(hào),便可開始獲取數(shù)據(jù),。
Park XE
適用于任何研究
標(biāo)準(zhǔn)成像
■真正的非接觸模式
■接觸模式
■間歇式(輕敵式)AFM
■橫向力模式(LFM)
■相位成像
化學(xué)性能
■功能化探針的化學(xué)力顯微鏡
■電化學(xué)顯微鏡(EC-STM和EC-AFM)
介電/電壓性能
■靜電力顯微鏡(EFM)
■動(dòng)態(tài)接觸式靜電力顯微鏡(DC-EFM)
■壓電力顯微鏡(PFM)
■高電壓PFM
力測量
■力-距離(F-D)光譜
■力-體積成像
■熱噪聲法標(biāo)定彈性系數(shù)
電性能
■導(dǎo)電AFM
■IV譜線
■掃描開爾文探針顯微鏡(SKPM/KPM)
■高電壓SKPM
■掃描電容顯微鏡(SCM)
■掃描電阻顯微鏡(SSRM)
■掃描隧道顯微鏡(STM)
■掃描隧道光譜(STS)
■時(shí)間分辨的光電流測繪(Tr-PCM)
磁性能
■磁力顯微鏡(MFM)
■可調(diào)外加磁場MFM
機(jī)械性能
■力調(diào)制顯微鏡(FMM)
■納米壓痕
■納米刻蝕
■高電壓納米刻蝕
■納米操控
■壓電力顯微鏡(PFM)
光學(xué)性能
■探針增強(qiáng)拉曼光譜(TERS)
■時(shí)間分辨的光電流測繪(Tr-PCM)
熱性能
■掃描熱感顯微鏡
選項(xiàng)
25μmZ掃描器
■工作距離:25μm
■激光類型:LD(650nm)orSLD(830nm)
■掃描器諧振頻率:1.7kHz
■零位掃描噪聲:0.03nm(typical),,0.05nm(maximum)
光學(xué)頭
■光學(xué)兼容性:上方及側(cè)面
■激光類型:LD(650nm)orSLD(830nm)
■Z掃描范圍:12μm or 25μm
■零位掃描噪聲:0.03nm(typical),0.05nm(maximum)
■掃描器諧振頻率:3kHz(12μm XE Head),,1.7kHz(25μm XE Head)
磁場發(fā)生器
■施加外部磁場,,平行于樣品表面方向
■強(qiáng)度范圍:-300 ~+300 高斯,-1500 ~ +1500高斯
■磁場強(qiáng)度可調(diào)
■由純鐵芯和雙螺線管組成
夾制探手
■適用于未裝載的探針
■可以為電力顯微鏡和導(dǎo)電顯微鏡提供偏壓
■探針偏壓范圍:-10V to +10V
■支持所有標(biāo)準(zhǔn)模式及高級(jí)模式,,掃描隧道顯微鏡,、掃描電容顯微鏡及液體成像除外。
液體池
■多功能液池
注滿液體/氣體的開式或閉式液池
控溫范圍:4°C to +110°C(in air),, 4°C to +70°C(with liquid)
■電化學(xué)工作池
■開放/閉式液池
液池用探手
■專為液體環(huán)境成像設(shè)計(jì)
■耐常見緩沖液及弱酸堿腐蝕
■在液體環(huán)境下實(shí)現(xiàn)接觸和非接觸成像
控溫臺(tái)
■制熱制冷臺(tái)(-25~180度)
■250度控溫臺(tái)
■600度0控溫臺(tái)
信號(hào)接入模塊
■使原子力顯微鏡可接入各種輸入/輸出信號(hào)
■XY及Z掃描器的掃描器驅(qū)動(dòng)信號(hào)
■XY及Z掃描器的位置信號(hào)
■垂直/水平方便的懸臂撓度信號(hào)
■樣品及懸臂的偏壓信號(hào)
■XE7的驅(qū)動(dòng)信號(hào)
■系統(tǒng)的輔助輸入信號(hào)
ParkXE7
產(chǎn)品系數(shù):
掃描器
XY掃描器
閉環(huán)控制式單模塊柔性XY-掃描器
掃描范圍:100μm x 100μm
50μm x 50μm
10μm x 10μm
Z掃描器
柔性引導(dǎo)高力度掃描器
掃描范圍:12μm
25μm
光學(xué)系統(tǒng)
可觀察樣品和探針的直視同軸光學(xué)系統(tǒng)
10X物鏡(可選20X)
視場:480X360μm
CCD:1M像素(像素分辨率:0.4μm)
樣品尺寸
樣品尺寸:**10mm
樣品高度:**20mm
電路系統(tǒng)
高性能DSP : 600 MHz with 4800 MIPS
**圖像尺寸: 4096 x 4096像素,, 16個(gè)數(shù)據(jù)圖像
信號(hào)輸入: 在500kHz取樣時(shí), 16位ADC的20個(gè)通道
信號(hào)輸出: 在500kHz取樣時(shí),, 16位ADC的21個(gè)通道
同步信號(hào) :圖像結(jié)束,, 線結(jié)束及像素結(jié)束TTL信號(hào)
主動(dòng)Q控制(選配)
懸臂梁彈性常數(shù)校準(zhǔn)(選配)
CE Compliant
電源 : 120 W
信號(hào)處理模塊 (選配)
選項(xiàng)/模式
標(biāo)準(zhǔn)成像
真正的非接觸模式
接觸模式
間歇式(輕敲式)AFM
橫向力模式(LFM)
相位成像
化學(xué)性能
功能化探針的化學(xué)力顯微鏡
電化學(xué)顯微鏡(EC-STM和EC-AFM)
介電/壓電性能
靜電力顯微鏡(EFM)
動(dòng)態(tài)接觸式靜電力顯微鏡(DC-EFM)
壓電力顯微鏡(PFM)
高電壓PFM
力測量
力-距離(F-D)光譜
力-體積成像
磁性能
磁力顯微鏡(MFM)
可調(diào)外加磁場MFM
光學(xué)性能
探針增強(qiáng)行拉曼光譜(TERS)
時(shí)間分辨的光電流測繪(Tr-PCM)
電性能
導(dǎo)電AFM
I-V譜線
掃描開爾文探針顯微鏡(SKPM/KPM)
高電壓SKPM
掃描電容顯微鏡(SCM)
掃描電阻顯微鏡(SSRM)
掃描隧道顯微鏡(STM)
掃描隧道光譜(STS)
時(shí)間分辨的光電流測繪(Tr-PCM)
機(jī)械性能
力調(diào)制顯微鏡(FMM)
納米壓痕
納米刻蝕
納米刻蝕
納米操縱
壓電力顯微鏡(PFM)
熱性能
掃描熱感顯微鏡
樣品臺(tái)
XY臺(tái)工作范圍:13X13mm
Z臺(tái)工作范圍:29.5mm
聚焦臺(tái)工作范圍:70mm
軟件
XEP
系統(tǒng)控制和數(shù)據(jù)采集的專用軟件
實(shí)時(shí)調(diào)整反饋參數(shù)
通過外部程序(選項(xiàng))進(jìn)行腳本級(jí)控制
XEI
AFM數(shù)據(jù)分析軟件
暫無數(shù)據(jù)!