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STAR系列等離子處理系統(tǒng)
STAR系列等離子處理系統(tǒng)

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等離子處理系統(tǒng)

PlasmaSTAR® 100/200

PlasmaSTAR®系列等離子處理系統(tǒng)適合處理所有的材料,。 PlasmaSTAR®系統(tǒng)擁有多種腔室和電極配置,,可滿足不同的等離子工藝和基片尺寸。其中較典型的等離子處理工藝包括:

? 等離子預處理

? 光刻膠去膠

? 表面處理

? 各向異性和各向同性蝕刻

? 故障分析應用

? 材料改性

? 封裝清洗

? 鈍化層刻蝕

? 聚酰胺刻蝕

? 促進粘合

? 生物醫(yī)學應用

? 聚合反應

? 混合清洗

? 預鍵合清洗

PlasmaSTAR®系列等離子處理系統(tǒng)設計獨特且多樣化,。其功能包括用于操作臺面上,占地面積小,,或層流安裝,,以及用于各種等離子工藝的模塊化腔室和電極配置。此外,,觸摸屏計算機控制,,多級程序控制和組件控制,操作簡單,。

PlasmaSTAR®系列等離子處理系統(tǒng)用于研究,、工藝開發(fā)和批量生產,。 PlasmaSTAR®系統(tǒng)可輕松集成到自動化生產線和系統(tǒng)中,。

該系統(tǒng)基于模塊化設計理念,,可適應各種PCB的尺寸。此設計適用于任何尺寸的基片,。

PlasmaSTAR®系統(tǒng)提供多個電極模塊,如LFKHz)或13.56MHz)的射頻電源以及自動匹配網絡,。根據不同的等離子處理工藝選擇不同的電極模塊,。

基本系統(tǒng)

PlasmaSTAR®通用基本系統(tǒng)包括必需的閥門、真空泵浦,、射頻電源,、射頻匹配器、工藝氣體控制和系統(tǒng)控制,。這些配置組合提供了一套全自動化等離子處理系統(tǒng),。通用基本系統(tǒng)可容納不同的腔室和電極模塊,,這些模塊可輕松放入其中。該系統(tǒng)可快速從一款普通的圓柱形等離子體處理系統(tǒng)轉換為一款用于反應離子刻蝕(RIE)和平面處理的水冷平板電極系統(tǒng)或是帶支架的混合等離子清洗系統(tǒng),。

腔室/電極

PlasmaSTAR®模塊化腔室和電極組件是該系統(tǒng)的獨特功能,。 腔室材料是硬質陽極氧化鋁。 有幾種不同的電極設計,,包括用于反應離子刻蝕(RIE)和平面處理的水冷平板電極,,用于表面清洗或處理的交替托盤電極,用于*小化離子損傷的下游電極,,和用于普通的圓柱形等離子體處理的籠式電極,。

等離子體源

該系統(tǒng)可選配LFKHz)或13.56MHz)射頻電源以及自動匹配網絡。

真空泵浦系統(tǒng)

該系統(tǒng)配機械泵或帶羅茨鼓風機的機械泵,。根據所需的真空處理水平,,可提供不同尺寸大小的真空泵。真空泵配有腐蝕性泵油(惰性泵油),,適用于氧氣或其他腐蝕性化學應用,。流量控制器(MFC)的氣體管路是標配。下游壓力控制器是選配,。

電腦控制

觸摸屏電腦控制,提供無線程序存儲,。多步驟工藝簡單易存。 實時顯示工藝條件,。 該控制系統(tǒng)易于編程,。 工藝處理可用條形碼讀?。ㄟx配)。

規(guī)格

PlasmaSTAR® 100的尺寸:800(寬)x 850(深)x 525(高)mm,;重量:約150 Kg,。

PlasmaSTAR® 200的尺寸:1,033(寬)x 850(深)x 635(高)mm,;重量:約 220 Kg,。

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