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美國光學(xué)膜厚儀,，廣泛應(yīng)用于各種薄膜,、涂層光學(xué)常數(shù)(n and k)和厚度的精確測量，設(shè)備分為在線和離線兩種工作模式,，操作便捷,，幾秒鐘內(nèi)即可完成測量和數(shù)據(jù)分析，USB 連接計算機控制,；

薄膜表面或界面的反射光會與從基底的反射光相干涉,，干涉的發(fā)生與膜厚及折光系數(shù)等有關(guān)，因此可通過計算得到薄膜的厚度,。光干涉法是一種無損,、精確且快速的光學(xué)薄膜厚度測量技術(shù)，我們的薄膜測量系統(tǒng)采用光干涉原理測量薄膜厚度。

應(yīng)用：

半導(dǎo)體（光刻膠,、氧化物和氮化物等）,，

液晶顯示器（ITO， Polyimide,， Cell gap）,，

法醫(yī)鑒定、生物薄膜和材料,；

墨水,、礦物、染料,、化妝品,；

硬質(zhì)涂層、減反射涂層,、濾波涂層,；

醫(yī)藥、醫(yī)療器件,；

光學(xué)薄膜,、TiO2， SiO2,， Ta2O5,；

半導(dǎo)體化合物；

功能薄膜（MEMS/MOEMS）,；

非晶硅,、納米晶硅、晶體硅,；

技術(shù)參數(shù)：

測量范圍：20 nm to 50 μm (Thickness only),，

100 nm to 10 μm (Thickness with n and k) ；

多層測量：Up to 4 layers,；

光點大小調(diào)節(jié)范圍：0.8 mm to 1 cm ,；

薄膜厚度測量精度：±0.5%；

厚度測重復(fù)性：0.1nm,；

樣品臺尺寸：200 mm × 200 mm,；

主要特點：

*基片折射率和消光系數(shù)測量；

*薄膜厚度測量,，平均值和標(biāo)準(zhǔn)偏差分析,；

*薄膜折射率和消光系數(shù)測量；

*適用于不用材質(zhì)和厚度的薄膜,、涂層和基片,；

*測試數(shù)據(jù)輸出和加載；

*直接Patterned或特征機構(gòu)的試樣測試；

*可用于實時在線薄膜厚度,、折射率監(jiān)測,；

*波長范圍可選；

*系統(tǒng)配備強大的光學(xué)常數(shù)庫和材料數(shù)據(jù)庫,，便于測試和數(shù)據(jù)分析,；