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全球先進的薄膜應(yīng)力測量系統(tǒng),，又名薄膜應(yīng)力計或薄膜應(yīng)力儀,！MOS美國**技術(shù)（**號US 7，391,，523 B1）,！曾榮獲2008 Innovation of the Year Awardee！

系統(tǒng)采用非接觸MOS激光技術(shù),；不但可以對薄膜的應(yīng)力,、表面曲率和翹曲進行準確的測量，而且還可二維應(yīng)力Mapping成像統(tǒng)計分析,；同時可準確測量應(yīng)力,、曲率隨溫度變化的關(guān)系；

全球知名高等學(xué)府（如：Harvard University 2套,，Stanford University,，Johns Hopkins University，Brown University 2套,，Karlsruhe Research Center,，Max Planck Institute，西安交通大學(xué)等）,、中國計量科學(xué)研究院,、中科院上海微系統(tǒng)所、中科院上海光機所,、中科院半導(dǎo)體所,、半導(dǎo)體制和微電子造商（如IBM.，Seagate Research Center,，Phillips Semiconductor,，NEC，Nissan ARC,，Nichia Glass Corporation）等所采用,；

相關(guān)產(chǎn)品：

1. 實時原位薄膜應(yīng)力儀：同樣采用先進的MOS技術(shù)，可裝在各種真空沉積設(shè)備上（如：MBE,， MOCVD,， sputtering， PLD,， PECVD,， and annealing chambers ects），對于薄膜生長過程中的應(yīng)力變化進行實時原位測量和二維成像分析,；

2. 薄膜熱應(yīng)力測量系統(tǒng),；

技術(shù)參數(shù)：薄膜應(yīng)力測量系統(tǒng)，薄膜應(yīng)力測試儀，薄膜應(yīng)力計,，薄膜應(yīng)力儀,，F(xiàn)ilm Stress Tester， Film Stress Measurement System;

1.XY雙向程序控制掃描平臺掃描范圍：300mm (XY)（可選）,；

2.XY雙向掃描速度：可達20mm/s,；

3.XY雙向掃描平臺掃描步進分辨率：2 μm ；

4.樣品holder兼容：50mm,， 75mm,， 100mm， 150mm,， 200mm,， and 300mm直徑樣品；

5.程序化控制掃描模式：選定區(qū)域,、多點線性掃描、全面積掃描,；

6.成像功能：樣品表面2D曲率,、應(yīng)力成像，及3D成像分析,；

7.測量功能：曲率,、曲率半徑、應(yīng)力強度,、應(yīng)力,、Bow和翹曲等；

主要特點：

1.程序化控制掃描模式：單點掃描,、選定區(qū)域,、多點線性掃描、全面積掃描,；

2.成像功能：樣品表面2D曲率成像,，定量薄膜應(yīng)力2D成像分析；

3.測量功能：薄膜應(yīng)力,、翹曲,、曲率半徑等；

4.支持變溫熱應(yīng)力測量功能,，溫度范圍-65C to 1000C,；（選配）

5.薄膜殘余應(yīng)力測量；

測試實例：