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全球先進的薄膜應力測量系統(tǒng),，又名薄膜應力計或薄膜應力儀！MOS美國**技術（**號US 7,，391,，523 B1）！曾榮獲2008 Innovation of the Year Awardee,！

系統(tǒng)采用非接觸MOS激光技術,；不但可以對薄膜的應力、表面曲率和翹曲進行準確的測量,，而且還可二維應力Mapping成像統(tǒng)計分析,；同時可準確測量應力、曲率隨溫度變化的關系,；

全球知名高等學府（如：Harvard University 2套,，Stanford University,，Johns Hopkins University，Brown University 2套,，Karlsruhe Research Center,，Max Planck Institute，西安交通大學等）,、中國計量科學研究院、中科院上海微系統(tǒng)所,、中科院上海光機所,、中科院半導體所、半導體制和微電子造商（如IBM.,，Seagate Research Center,，Phillips Semiconductor，NEC,，Nissan ARC,，Nichia Glass Corporation）等所采用；

相關產品：

1. 實時原位薄膜應力儀：同樣采用先進的MOS技術,，可裝在各種真空沉積設備上（如：MBE,， MOCVD， sputtering,， PLD,， PECVD， and annealing chambers ects）,，對于薄膜生長過程中的應力變化進行實時原位測量和二維成像分析,；

2. 薄膜熱應力測量系統(tǒng)；

技術參數：薄膜應力測量系統(tǒng),，薄膜應力測試儀,，薄膜應力計，薄膜應力儀,，Film Stress Tester,， Film Stress Measurement System;

1.XY雙向程序控制掃描平臺掃描范圍：300mm (XY)（可選）；

2.XY雙向掃描速度：可達20mm/s,；

3.XY雙向掃描平臺掃描步進分辨率：2 μm ,；

4.樣品holder兼容：50mm， 75mm,， 100mm,， 150mm， 200mm,， and 300mm直徑樣品,；

5.程序化控制掃描模式：選定區(qū)域,、多點線性掃描、全面積掃描,；

6.成像功能：樣品表面2D曲率,、應力成像，及3D成像分析,；

7.測量功能：曲率,、曲率半徑、應力強度,、應力,、Bow和翹曲等；

主要特點：

1.程序化控制掃描模式：單點掃描,、選定區(qū)域,、多點線性掃描、全面積掃描,；

2.成像功能：樣品表面2D曲率成像,，定量薄膜應力2D成像分析；

3.測量功能：薄膜應力,、翹曲,、曲率半徑等；

4.支持變溫熱應力測量功能,，溫度范圍-65C to 1000C,；（選配）

5.薄膜殘余應力測量；

測試實例：