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全球先進(jìn)的薄膜應(yīng)力測量系統(tǒng),，又名薄膜應(yīng)力計或薄膜應(yīng)力儀,！MOS美國**技術(shù)（**號US 7，391,，523 B1）,！曾榮獲2008 Innovation of the Year Awardee！

系統(tǒng)采用非接觸MOS激光技術(shù),；不但可以對薄膜的應(yīng)力,、表面曲率和翹曲進(jìn)行準(zhǔn)確的測量，而且還可二維應(yīng)力Mapping成像統(tǒng)計分析,；同時可準(zhǔn)確測量應(yīng)力,、曲率隨溫度變化的關(guān)系；

全球知名高等學(xué)府（如：Harvard University 2套,，Stanford University,，Johns Hopkins University，Brown University 2套,，Karlsruhe Research Center,，Max Planck Institute，西安交通大學(xué)等）,、中國計量科學(xué)研究院、中科院上海微系統(tǒng)所,、中科院上海光機(jī)所,、中科院半導(dǎo)體所、半導(dǎo)體制和微電子造商（如IBM.,，Seagate Research Center,，Phillips Semiconductor，NEC,，Nissan ARC,，Nichia Glass Corporation）等所采用；

相關(guān)產(chǎn)品：

1. 實(shí)時原位薄膜應(yīng)力儀：同樣采用先進(jìn)的MOS技術(shù),，可裝在各種真空沉積設(shè)備上（如：MBE,， MOCVD,， sputtering， PLD,， PECVD,， and annealing chambers ects），對于薄膜生長過程中的應(yīng)力變化進(jìn)行實(shí)時原位測量和二維成像分析,；

2. 薄膜熱應(yīng)力測量系統(tǒng),；

技術(shù)參數(shù)：薄膜應(yīng)力測量系統(tǒng)，薄膜應(yīng)力測試儀,，薄膜應(yīng)力計,，薄膜應(yīng)力儀，F(xiàn)ilm Stress Tester,， Film Stress Measurement System;

1.XY雙向程序控制掃描平臺掃描范圍：300mm (XY)（可選）,；

2.XY雙向掃描速度：可達(dá)20mm/s；

3.XY雙向掃描平臺掃描步進(jìn)分辨率：2 μm ,；

4.樣品holder兼容：50mm,， 75mm， 100mm,， 150mm,， 200mm， and 300mm直徑樣品,；

5.程序化控制掃描模式：選定區(qū)域,、多點(diǎn)線性掃描、全面積掃描,；

6.成像功能：樣品表面2D曲率,、應(yīng)力成像，及3D成像分析,；

7.測量功能：曲率,、曲率半徑、應(yīng)力強(qiáng)度,、應(yīng)力,、Bow和翹曲等；

主要特點(diǎn)：

1.程序化控制掃描模式：單點(diǎn)掃描,、選定區(qū)域,、多點(diǎn)線性掃描、全面積掃描,；

2.成像功能：樣品表面2D曲率成像,，定量薄膜應(yīng)力2D成像分析；

3.測量功能：薄膜應(yīng)力、翹曲,、曲率半徑等,；

4.支持變溫?zé)釕?yīng)力測量功能，溫度范圍-65C to 1000C,；（選配）

5.薄膜殘余應(yīng)力測量,；

測試實(shí)例：