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電子束系統
Description:
●專為金屬,、電介質,、氧化物、半導體和合金的沉積而設計,，用于研發(fā)實驗室和試生產應用
●可配置離子束清洗和離子輔助沉積(IAD)的離子源
●可實現<+/-3%的均勻沉積
●系統可配備不同的真空泵,，用于高壓和超高壓
●多功能、操作簡便,、長期可靠,，適用于單層和多層薄膜蒸發(fā)
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