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微波等離子化學(xué)氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng) —— A型
微波等離子化學(xué)氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng) —— A型

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型號

微波等離子化學(xué)氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng) —— A型

品牌

華宇東升

產(chǎn)地

四川

樣本

暫無
成都華宇東升微波設(shè)備有限公司

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微波等離子化學(xué)氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng)

—— A 

   一款典型的微波等離子體化學(xué)氣相沉積裝置,,可以在50mm直徑的襯底范圍內(nèi)進行金剛石單晶和多晶生長,。

應(yīng)用領(lǐng)域:工具、熱沉,、光學(xué)窗口,、寶石等。



    


性能特點:

?**功率達(dá)到6kW

?微波反應(yīng)腔新型設(shè)計,,功率密度大

?產(chǎn)品沉積速率快,、沉積質(zhì)量高

?采用水冷全金屬腔體

?采用高效散熱的樣品臺

?設(shè)備安全性高、耐用性高,、可靠性強

?多參數(shù)實時監(jiān)測,,PLC屏幕控制,簡捷的人機交互界面


主要技術(shù)參數(shù):

微波功率

0.6kW -6kW 連續(xù)可調(diào) 2.45GHz

反應(yīng)腔圓柱形反應(yīng)腔
真空漏率≤5×10-10Pa·m3/s
氣體質(zhì)量流量控制標(biāo)配5路,,可定制
工作氣壓

1kPa - 30kPa

樣品臺

一層升降

基板臺類型水冷式基板臺
襯底托**支持60mm直徑圓臺面積穩(wěn)定沉積
操作系統(tǒng)

PLC控制系統(tǒng)

樣平臺升降功能有,,可選
樣品臺旋轉(zhuǎn)功能
旋轉(zhuǎn)模式連續(xù)旋轉(zhuǎn)、間歇旋轉(zhuǎn)
旋轉(zhuǎn)角度360°
旋轉(zhuǎn)速度0-20轉(zhuǎn)/分,,可調(diào)節(jié)


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10分

售后服務(wù)

10分

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10分

性價比

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