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高真空電阻熱蒸發(fā)鍍膜機（高真空鍍膜機）采用電阻熱蒸發(fā)技術，它是在高真空條件下,，通過加熱材料的方法,，在襯底上沉積各種化合物、混合物單層或多層膜,?？捎糜谏a和科學實驗，可根據用戶要求專門訂制,；可用于材料的物理和化學研究,；可用于制備金屬導電電極；可用于有機材料的物理化學性能研究實驗,、有機半導體器件的原理研究實驗,、OLED實驗研究及有機太陽能薄膜電池研究實驗等。

設備構成

-單鍍膜室

-單鍍膜室＋進樣室

-單鍍膜室＋手套箱（可將鍍膜室放在手套箱內）

-單鍍膜室＋進樣室＋手套箱（可將鍍膜室放在手套箱內）

-多鍍膜室＋樣品傳遞室＋手套箱（組成團簇式結構,，樣品傳遞采用真空機械手）

設備組成

電阻熱蒸發(fā)源組件,、樣品掩膜擋板系統(tǒng),、真空獲得系統(tǒng)及真空測量系統(tǒng),、分子泵（或冷泵）真空機組、旋轉基片加熱臺,、工作氣路,、手套箱連接部件、樣品傳遞機構,，膜厚控制系統(tǒng),、電控系統(tǒng)、恒溫冷卻水系統(tǒng)等組成,。

熱蒸發(fā)源類型和數量,，可根據用戶需要進行配置。

可選件：膜厚監(jiān)控儀,，恒溫制冷水箱,。

熱蒸發(fā)源種類及配置

電阻熱蒸發(fā)源組件：數量：1～12套（可根據用戶要求配裝）；

電阻熱蒸發(fā)源種類：鉭（鎢或鉬）金屬舟熱蒸發(fā)源組件,、石英舟熱蒸發(fā)源組件,、鎢極或鎢藍熱蒸發(fā)源組件、鉭爐熱蒸發(fā)源組件（配氮化硼坩堝或陶瓷坩堝）,、束源爐熱蒸發(fā)組件（配石英坩堝或氮化硼坩堝）,。

高真空電阻熱蒸發(fā)鍍膜機（高真空鍍膜機） 工作條件（實驗室應具備的設備工作條件）

供電：4kW,，三相五線制～ AC 380V

工作環(huán)境濕度：10℃～ 40℃

工作環(huán)境溫度：≤50%

冷卻循環(huán)水：0.2m³/h，水溫18℃～ 25℃

水壓：0.15MPa ～ 0.25MPa

真空性能

極限真空：7×10^-5Pa～7×10^-6Pa

設備總體漏放率：關機12小時,，≤10Pa

操作方式

手動,、半自動