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美國Trion Technology
等離子刻蝕,、等離子刻蝕機
反應式離子刻蝕(RIE/ICP)系統(tǒng)及沉積(PECVD)系統(tǒng)
Trion始于一九八九年的等離子刻蝕與沉積系統(tǒng)制造商,，Trion為化合物半導體,、MEMS(微機電系統(tǒng)),、光電器件以及其他半導體市場提供多種設備。我們的產(chǎn)品在業(yè)內以系統(tǒng)占地面積小、成本低而著稱,，且設備及工藝的可靠性和穩(wěn)定性久經(jīng)考驗,。從整套的批量生產(chǎn)用設備,，到簡單的實驗室研發(fā)用系統(tǒng)，盡在Trion等離子刻蝕機,、等離子去膠機、RIE等離子刻蝕機,、微波等離子去膠機、plasma stripper
等離子刻蝕機
- 低損傷去膠系統(tǒng)
新式去膠系統(tǒng)的成本已攀升到不合理水平,，但Trion已通過兩套價格低廉,、緊湊的多功能系統(tǒng)使這一關鍵問題得到解決：Gemini和Apollo。利用ICP(電感耦合等離子),、微波和射頻偏置功率,，可以在低溫條件下將難于消除的光刻膠去除。根據(jù)應用要求,，每套系統(tǒng)可以結合SST-Lightning 微波源(既可靠又沒有任何常見的微波調諧問題) 或ICP 技術,。
等離子刻蝕機
刻蝕速率高達6微米/分
高產(chǎn)量
等離子損傷低
自動匹配單元
適用于100mm 到300mm 基片
設備占地面積小
價格具競爭性
等離子刻蝕
刻蝕/沉積
Titan是一套用于半導體生產(chǎn)的十分緊湊、全自動化,、帶預真空室的等離子系統(tǒng)
包含：等離子刻蝕機,、等離子去膠機,、RIE等離子刻蝕機,、微波等離子去膠機,、plasma stripper
暫無數(shù)據(jù)！
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