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Primo AD-RIE?第二代電介質(zhì)刻蝕設備品牌
中微公司產(chǎn)地
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Primo AD-RIE?是中微第二代電介質(zhì)刻蝕產(chǎn)品,?；谝驯徽J可的Primo D-RIE?刻蝕設備，Primo AD-RIE應用了具有自主知識產(chǎn)權的新設計,，配備了可切換雙低頻射頻源,，優(yōu)化了上電極氣流分布以及下電極溫控系統(tǒng)。為了優(yōu)化生產(chǎn)效率,，Primo AD-RIE系統(tǒng)同樣可以靈活地裝置多達三個雙反應臺反應腔（即六個反應臺）,。Primo AD-RIE具備能夠滿足新一代芯片器件制造需求的先進性能，目前已被廣泛應用于40到14納米后段制程,。
此外,，中微基于Primo AD-RIE開發(fā)了子系列產(chǎn)品Primo AD-RIE-e和Primo AD-RIE-cr。Primo AD-RIE-e配備了自主研發(fā)的四區(qū)動態(tài)靜電吸盤,，每一制程步驟可獨立進行控溫,，以達到更高的刻蝕均勻度和刻蝕選擇比，目前已應用于5納米前段和中段的掩膜層刻蝕的開發(fā)及量產(chǎn),。Primo AD-RIE-cr配備了擁有自主知識產(chǎn)權涂層技術的抗腐蝕反應腔,，可應對電介質(zhì)材料、金屬及金屬氧化物材料復雜結構的刻蝕要求,。
雙反應臺腔體設計具有更高的產(chǎn)出效率
雙低頻功率切換系統(tǒng),，用于制程分步驟優(yōu)化
脈沖射頻系統(tǒng)選項
多區(qū)氣體分配調(diào)節(jié)系統(tǒng)
靜電吸盤雙區(qū)冷卻裝置
低金屬污染工藝組件選項
每一步驟可獨立進行控溫的四區(qū)動態(tài)靜電吸盤 （Primo AD-RIE-e）
擁有自主知識產(chǎn)權涂層技術的抗腐蝕反應腔 （Primo AD-RIE-cr）
一體整合的除膠能力及表面電荷減除能力 （Primo iDEA?系統(tǒng)）
雙低頻率分步驟切換系統(tǒng)，以適用于更廣的制程范圍（特別是Trench/Via All-in-one制程） 優(yōu)異的工藝可調(diào)性和穩(wěn)定性,，以滿足先進工藝標準 高生產(chǎn)效率，低生產(chǎn)成本（CoO） 擴展機型Primo AD-RIE-e, Primo AD-RIE-cr 和 Primo iDEA?,，可應用于不同特殊制程競爭優(yōu)勢
暫無數(shù)據(jù),！
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