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高密度等離子體

5I500D 具有優(yōu)良的等離子體特性，例如高密度,，低離子能量,，沉積介質(zhì)膜時低壓強(qiáng)等。平板ICP等離子源

SENTECH專有的平板三螺旋天線(PTSA)等離子源能實(shí)現(xiàn)高效低功率耦合,。

優(yōu)良的沉積效果

沉積的薄膜具有損傷少,、擊穿電壓高、應(yīng)力低,，對襯底無損傷,，極低表面態(tài)密度，能低于100℃的沉積等優(yōu)良特性,。動態(tài)溫控

襯底電極結(jié)合背面氦氣冷卻和溫度傳感器進(jìn)行動態(tài)溫控,，能提供穩(wěn)定的工藝條件，溫度范圍為室溫至350°(

5I500D等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)可以進(jìn)行介質(zhì)膜,、α-硅,、SiC和其他材料的沉積。S1500D具有PTSA等離子源,、分開式反應(yīng)氣體進(jìn)氣系統(tǒng),，動態(tài)襯底電極溫控，全面控制真空系統(tǒng),，采用遠(yuǎn)程現(xiàn)場控制總線技術(shù)的SENTECH控制軟件,，以及友好用戶操作界面來操作。S1500D可以在**尺寸為200mm的多種晶圓片上的進(jìn)行沉積,。單片真空裝片裝置保證了工藝條件穩(wěn)定性,，同時允許工藝的靈活切換。

S1500D型PECVD設(shè)備適用于室溫至350℃條件下進(jìn)行的Si02,、SiNx,、SiONx a-Si薄膜的沉積，同時可實(shí)現(xiàn)TEOS源沉積SiC膜層沉積以及液態(tài)或氣態(tài)源沉積其它材料,，尤其適合于有機(jī)材料上高效保護(hù)層膜和特定溫度下無損傷鈍化膜的沉積,SENTECH面向高靈活性和高產(chǎn)能刻蝕和沉積系統(tǒng)提供各種級別的自動化裝置,，從真空裝片系統(tǒng)到**6端口的工藝腔室裝置。S1500同樣可以作為多腔室配置中的一個工藝模塊,。