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SEM/TEM電鏡腔體原位等離子清洗儀
SEM/TEM電鏡腔體原位等離子清洗儀

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現(xiàn)象描述:

樣品在電鏡中長時間成像,,或進行EDX成分分析過程中,可能會在測試區(qū)域形成“黑色方框”,,這通常是由聚合物碳沉積引起,。

成因分析:

當高能電子撞擊樣品表面時,它們產(chǎn)生大量低能二次電子(SE),。SE由于其較低的速度而與環(huán)境污染物氣體分子具有高得多的相互作用面,。它們分解有機污染,并在成像區(qū)域周圍造成“碳沉積”(碳氫化合物或烴),。當表面被薄層烴覆蓋時,,二次電子產(chǎn)率將降低。

負面影響:

由于積碳影響,,電子暴光區(qū)域?qū)⒈戎車奈雌毓鈪^(qū)域更暗,,減少了電子顯微鏡圖像中的材料對比度。研究表明,,導(dǎo)電性越好,,二次電子產(chǎn)額越高的樣品,其發(fā)生碳沉積也越快,。原因在于,,對于這類觀察樣品,表面碰撞出SE越多,,所以導(dǎo)致相互作用在表面生成的烴也越多越快,。甚至隨碳積影響,表面會累積電荷導(dǎo)致無法清晰成像,。更有甚者,,碳氫化合物污染嚴重的時候,可能會導(dǎo)致電子光學成像部件及探測器等污染,,使電子束及成像漂移,。

RPS50 SEM掃描電鏡原位等離子清洗儀適用于SEM或FIB等電鏡腔體內(nèi)碳氫化合物的清洗及樣品積碳清洗。采用遠程RF射頻離子源清洗,,高效、低等離子體轟擊損傷,。核心部件采用國際一流品牌,,保證設(shè)備具有優(yōu)異的質(zhì)量與穩(wěn)定可靠性,。

RF射頻離子源通入氧氣后產(chǎn)生的等離子體被電磁場束縛于離子源內(nèi)部, O活性自由基與SEM腔室內(nèi)碳氫化合物反應(yīng)生成CO2,,CO及H2O等被真空機組抽走,,*終實現(xiàn)SEM腔室/樣品積碳清洗之目的,同時提高SEM成像分辨率及襯度,,縮短電鏡抽真空時間,。

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