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FOUP（前開(kāi)式晶圓傳送盒，F(xiàn)ully Opened Unpatterned Shipper）清洗設(shè)備是半導(dǎo)體制造中用于清潔和干燥晶圓載具的關(guān)鍵設(shè)備,，主要用于去除FOUP表面的顆粒,、有機(jī)物、金屬污染等污染物,，確保其滿(mǎn)足潔凈度要求（如Class 10標(biāo)準(zhǔn)）,。以下是關(guān)于該設(shè)備的詳細(xì)技術(shù)解析與功能說(shuō)明：

一、核心功能與應(yīng)用場(chǎng)景

核心功能

高效清洗：通過(guò)噴淋,、超聲波,、離心力等技術(shù)去除FOUP表面的污染物。

快速干燥：采用熱風(fēng),、紅外線(xiàn)或惰性氣體（如CDA,、N?）烘干技術(shù)，實(shí)現(xiàn)“干進(jìn)干出”,。

兼容性強(qiáng)：支持多種尺寸（4寸至12寸）的FOUP,、FOSB、FOSC及RS/CSP Cassette,。

應(yīng)用場(chǎng)景

半導(dǎo)體制造中的晶圓存儲(chǔ)與傳輸環(huán)節(jié),。

封裝測(cè)試（OSAT）及微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）生產(chǎn),。

需要高潔凈度載具的納米級(jí)制程（如高端芯片制造）。

二,、技術(shù)特點(diǎn)與結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)

清洗技術(shù)

高壓噴淋清洗

通過(guò)高壓噴嘴噴射去離子水（DI Water）,，覆蓋FOUP表面，利用機(jī)械力剝離顆粒和金屬離子,。

部分設(shè)備配備雙流體旋轉(zhuǎn)噴射技術(shù),，實(shí)現(xiàn)超微精密清洗（如亞微米級(jí)顆粒去除）。

超聲波清洗

高頻聲波震動(dòng)產(chǎn)生空化效應(yīng),，分解微小顆粒和有機(jī)物殘留（如光刻膠,、油污）。

可與噴淋系統(tǒng)聯(lián)動(dòng),，增強(qiáng)復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清潔效果（如FOUP縫隙,、角落）。

離心清洗

FOUP在清洗艙內(nèi)高速旋轉(zhuǎn)（360°正反轉(zhuǎn)動(dòng)）,，利用離心力甩離污染物,，同時(shí)降低表面張力

2. 干燥技術(shù)

熱風(fēng)干燥：通過(guò)高溫?zé)犸L(fēng)快速蒸發(fā)表面水分，適用于常規(guī)清洗后處理,。

紅外線(xiàn)干燥：采用快中波紅外線(xiàn)技術(shù),，精準(zhǔn)控制溫度，避免FOUP材質(zhì)損傷,。

惰性氣體噴氣干燥：使用CDA（壓縮空氣干燥）或N?噴氣，適用于高潔凈度要求場(chǎng)景,，防止二次污染

3. 結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)與材料

耐腐蝕材料：清洗室通常由不銹鋼制成,，抗化學(xué)腐蝕且易于清潔。

抗震設(shè)計(jì)：部分設(shè)備（如首年SN830）采用獨(dú)特抗震結(jié)構(gòu),，確保高速旋轉(zhuǎn)或超聲波作業(yè)時(shí)的穩(wěn)定性,。

模塊化設(shè)計(jì)：支持定制噴淋系統(tǒng)、干燥模塊及自動(dòng)化上下料機(jī)構(gòu),，適應(yīng)不同工藝需求,。

三、自動(dòng)化與智能化控制

全自動(dòng)操作流程

預(yù)設(shè)程序控制清洗時(shí)間,、溫度,、轉(zhuǎn)速等參數(shù)，減少人為干預(yù),。

支持干進(jìn)干出模式,，清洗后直接進(jìn)入下一生產(chǎn)環(huán)節(jié)，提升效率,。

安全保障

扭力偵測(cè)：防止誤操作導(dǎo)致FOUP或設(shè)備損壞,。

停機(jī)自動(dòng)歸位：斷電或故障時(shí)自動(dòng)恢復(fù)初始狀態(tài),，便于重啟。

污染物監(jiān)測(cè)：部分設(shè)備集成顆粒計(jì)數(shù)器或金屬污染檢測(cè)儀,，實(shí)時(shí)反饋清洗效果,。

數(shù)據(jù)追溯與兼容性

通過(guò)軟件記錄清洗參數(shù)（如時(shí)間、溫度,、清洗液濃度）,，滿(mǎn)足SEMI標(biāo)準(zhǔn)要求。

兼容MES系統(tǒng),，實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)數(shù)據(jù)聯(lián)網(wǎng)管理,。

FOUP清洗設(shè)備是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中不可或缺的關(guān)鍵裝備，其技術(shù)融合了機(jī)械,、化學(xué),、自動(dòng)化及材料科學(xué)，直接影響芯片良率與生產(chǎn)效率,。未來(lái),，隨著制程進(jìn)步與國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程加速，該領(lǐng)域?qū)⒂瓉?lái)更多創(chuàng)新與競(jìng)爭(zhēng)機(jī)遇,。