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砷化鎵外延GaAs Epi品牌
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1. 霍爾元件材料-砷化鎵外延片 (Hall Components – GaAs Epi Wafer):砷化鎵具有高頻,高溫,,噪聲小,,低溫性能好,抗輻射能力強(qiáng)等特點(diǎn),。因而,,基于砷化鎵材料制造的霍爾元件具有更高的穩(wěn)定性和可靠性. 2. 異質(zhì)結(jié)雙極晶體管AlGaAs、InGaP/GaAs,、InP/InGaAs外延片 (HBT AlGaAs, InGaP/GaAs, InP/InGaAs Epitaxial Wafer): AlGaAs/GaAs異質(zhì)結(jié)外延片具有良好的晶格匹配,,容易實(shí)現(xiàn)微波與光電器件及其IC; InP/InGaAs異質(zhì)結(jié)外延片的晶格能匹配,,其中InGaAs具有很高的電子遷移率,; InGaP/GaAs異質(zhì)結(jié)外延片不易氧化,具有較大的價(jià)帶不連續(xù)性和較小的導(dǎo)帶不連續(xù)性,,是RF電路設(shè)計(jì)的**,。 3. GaAs、InP基雪崩光電二極管外延片 (APD Epiatxial Wafer): InGaAs/InP APD外延材料易于生長(zhǎng),,具有高量子效率和低暗電流,。因而與普通光電二極管相比,基于GaAs/InP外延結(jié)構(gòu)的雪崩光電二極管具有靈敏度高,,電流增益大以及頻率響應(yīng)快等特點(diǎn),。 4. 贗調(diào)制摻雜異質(zhì)結(jié)場(chǎng)效應(yīng)晶體管砷化鎵外延片(pHEMT GaAs Epitaxy):基于GaAs 外延材料的贗配高電子遷移率晶體管 ( PHEMT) 因其高電子遷移率、高電流調(diào)制效率,、低損耗等優(yōu)異性能,,廣泛應(yīng)用于微波和毫米波等頻段。 5. 635nm~2004nm激光GaAs外延片 (635nm~2004nm Laser Diode Epi Wafer): GaAs基激光二極管外延片通過(guò)MOCVD反應(yīng)器生長(zhǎng),,用于光纖通信,、工業(yè)應(yīng)用、VCSEL,、紅外及光電探測(cè)器等各個(gè)領(lǐng)域
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