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碳化硅外延SiC Epi
碳化硅外延SiC Epi

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型號

碳化硅外延SiC Epi

品牌

中芯晶研

產(chǎn)地

福建

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廈門中芯晶研半導(dǎo)體有限公司

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  1. 關(guān)于碳化硅(SiC)外延片碳化硅外延片以碳化硅單晶片為襯底,通常采用化學(xué)氣相沉積(CVD)方法在晶片上沉積一層單晶,,形成外延片,。 其中,碳化硅外延是通過在導(dǎo)電碳化硅襯底上生長碳化硅外延層來制備,,進一步制作成功率器件,。   2. 碳化硅外延片規(guī)格我司可提供4,、6英寸N型4H-SiC外延片。該外延片禁帶寬度大,、飽和電子飄移速度高,、存在高速二維電子氣、擊穿場強高,。這些性能使得器件耐高溫、耐高壓,、開關(guān)速度快,、導(dǎo)通電阻低、體積小,、重量輕,。   3. SiC 外延應(yīng)用 SiC外延片主要用于肖特基二極管(SBD)、金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管(MOSFET),、結(jié)型場效應(yīng)晶體管(JFET),、雙極結(jié)型晶體管(BJT)、晶閘管(SCR),、絕緣柵雙極型晶體管(IGBT),,應(yīng)用于低壓、中壓和高壓領(lǐng)域,。目前,,用于高壓領(lǐng)域的SiC外延片在世界范圍內(nèi)處于研發(fā)階段。image.png


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