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RIE(Reactive Ion Etching)離子刻蝕機：系列設備為真空等離子刻蝕機屬于電子工業(yè)的干法清洗,，工藝氣體在電子區(qū)域形成等離子體,，并產(chǎn)生電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，電離氣體原子通過電場加速時,，會釋放足夠的力量與表面驅逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面,，等離子體在工件表面發(fā)生反應，從而實現(xiàn)清潔,、改性,、刻蝕的目的，*后將污染物轉換為氣相,，并通過真空泵用連續(xù)氣體流將其排出,。

主要特點

1、超低清洗溫度,，滿足不同場合溫度要求,，不對清洗產(chǎn)品造成溫度影響；

2,、旋轉裝置為行星旋轉機構,、具鍍膜工藝不同,，設計為：變頻調速，公轉式,、公自轉結合式,。采用氣動門鉸，自動鎖門,，減少操作程序,，增強真空門整體的密閉性及減少對橡膠密封圈的破壞性；

3,、高真空度真空腔體設計及制造工藝,，配置進口真空泵（分子泵），用戶可據(jù)自己的需求,，隨時升級為多功能鍍膜設備,；

4、設備采用原裝進口高壓激勵電路技術,，產(chǎn)生高密度等離子體,，確保出眾的清洗效果；

5,、放電技術：特殊處理及特殊結構的放電裝置,，確保形成穩(wěn)定均勻的等離子體；

6,、智能控制：PLC智能控制+HMI全彩人機觸控界面,，實現(xiàn)邏輯全自動控制；

7,、報警及保護：全面安全防護包括：溫度安全防護功能,、過載防護功能、短路斷路報警防護功能,，各種誤操作保護功能,。異常情況進行報警，并執(zhí)行相應保護措施,。

技術優(yōu)勢

1,、物質的微結構表面會粘附各種各樣的氣體分子、微小顆粒,、氧化物雜質等,，統(tǒng)稱為粘附物，這些粘附物屬于微觀粒子,，宏觀的清洗方式不能清除它們,；

2、這些微觀粘附物會對納米級膜層產(chǎn)生諸多不利影響，影響膜層的結合力,、清潔度,、光澤、致密度等,；

3,、離子束刻蝕清洗源可以在真空條件下產(chǎn)生高能氬等離子體，轟擊被鍍工件表面,；它不僅可以消除表面粘附物,，還能“刻蝕”物質表面氧化物，從而得到“新鮮”物質表面,，可以極大地提高薄膜的結合力,，并提高膜層純度；

4,、離子束清洗工藝通常運行在膜層沉積之前,。 清洗各種形狀復雜的產(chǎn)品，包括內孔內壁,、均勻清洗；

5,、設計更緊湊合理,、美觀；離子束更穩(wěn)定,；工作功率范圍更寬,；清洗刻蝕效率更高；刻蝕均勻性更好,；性能可靠,，操作維修簡單方便；產(chǎn)品系列更完整,；

6,、應用領域，可以為如下行業(yè)的鍍膜提供表面清洗預處理：3C消費電子,、半導體,、光學、 交通工具,、刀具模具,、家電、新能源,、醫(yī)療,、**航天、科研等行業(yè),。