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離子刻蝕機(jī)RIE品牌
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RIE(Reactive Ion Etching)離子刻蝕機(jī):系列設(shè)備為真空等離子刻蝕機(jī)屬于電子工業(yè)的干法清洗,,工藝氣體在電子區(qū)域形成等離子體,并產(chǎn)生電離氣體和釋放高能電子組成的氣體,,電離氣體原子通過(guò)電場(chǎng)加速時(shí),,會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面,等離子體在工件表面發(fā)生反應(yīng),,從而實(shí)現(xiàn)清潔,、改性,、刻蝕的目的,,*后將污染物轉(zhuǎn)換為氣相,并通過(guò)真空泵用連續(xù)氣體流將其排出,。
主要特點(diǎn)
1,、超低清洗溫度,滿(mǎn)足不同場(chǎng)合溫度要求,,不對(duì)清洗產(chǎn)品造成溫度影響,;
2、旋轉(zhuǎn)裝置為行星旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),、具鍍膜工藝不同,,設(shè)計(jì)為:變頻調(diào)速,公轉(zhuǎn)式,、公自轉(zhuǎn)結(jié)合式,。采用氣動(dòng)門(mén)鉸,自動(dòng)鎖門(mén),,減少操作程序,,增強(qiáng)真空門(mén)整體的密閉性及減少對(duì)橡膠密封圈的破壞性;
3,、高真空度真空腔體設(shè)計(jì)及制造工藝,,配置進(jìn)口真空泵(分子泵),用戶(hù)可據(jù)自己的需求,隨時(shí)升級(jí)為多功能鍍膜設(shè)備,;
4,、設(shè)備采用原裝進(jìn)口高壓激勵(lì)電路技術(shù),產(chǎn)生高密度等離子體,,確保出眾的清洗效果,;
5、放電技術(shù):特殊處理及特殊結(jié)構(gòu)的放電裝置,,確保形成穩(wěn)定均勻的等離子體,;
6、智能控制:PLC智能控制+HMI全彩人機(jī)觸控界面,,實(shí)現(xiàn)邏輯全自動(dòng)控制,;
7、報(bào)警及保護(hù):全面安全防護(hù)包括:溫度安全防護(hù)功能,、過(guò)載防護(hù)功能,、短路斷路報(bào)警防護(hù)功能,各種誤操作保護(hù)功能,。異常情況進(jìn)行報(bào)警,,并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)措施。
技術(shù)優(yōu)勢(shì)
1,、物質(zhì)的微結(jié)構(gòu)表面會(huì)粘附各種各樣的氣體分子,、微小顆粒、氧化物雜質(zhì)等,,統(tǒng)稱(chēng)為粘附物,,這些粘附物屬于微觀粒子,宏觀的清洗方式不能清除它們,;
2,、這些微觀粘附物會(huì)對(duì)納米級(jí)膜層產(chǎn)生諸多不利影響,影響膜層的結(jié)合力,、清潔度,、光澤、致密度等,;
3,、離子束刻蝕清洗源可以在真空條件下產(chǎn)生高能氬等離子體,轟擊被鍍工件表面,;它不僅可以消除表面粘附物,,還能“刻蝕”物質(zhì)表面氧化物,從而得到“新鮮”物質(zhì)表面,,可以極大地提高薄膜的結(jié)合力,,并提高膜層純度,;
4、離子束清洗工藝通常運(yùn)行在膜層沉積之前,。 清洗各種形狀復(fù)雜的產(chǎn)品,,包括內(nèi)孔內(nèi)壁、均勻清洗,;
5,、設(shè)計(jì)更緊湊合理、美觀,;離子束更穩(wěn)定,;工作功率范圍更寬;清洗刻蝕效率更高,;刻蝕均勻性更好,;性能可靠,操作維修簡(jiǎn)單方便,;產(chǎn)品系列更完整,;
6、應(yīng)用領(lǐng)域,,可以為如下行業(yè)的鍍膜提供表面清洗預(yù)處理:3C消費(fèi)電子,、半導(dǎo)體、光學(xué),、 交通工具,、刀具模具、家電,、新能源,、醫(yī)療,、**航天,、科研等行業(yè)。
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