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RIE(Reactive Ion Etching)離子刻蝕機(jī)：系列設(shè)備為真空等離子刻蝕機(jī)屬于電子工業(yè)的干法清洗,，工藝氣體在電子區(qū)域形成等離子體，并產(chǎn)生電離氣體和釋放高能電子組成的氣體,，電離氣體原子通過(guò)電場(chǎng)加速時(shí),，會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面，等離子體在工件表面發(fā)生反應(yīng),，從而實(shí)現(xiàn)清潔,、改性,、刻蝕的目的,，*后將污染物轉(zhuǎn)換為氣相，并通過(guò)真空泵用連續(xù)氣體流將其排出,。

主要特點(diǎn)

1,、超低清洗溫度，滿(mǎn)足不同場(chǎng)合溫度要求,，不對(duì)清洗產(chǎn)品造成溫度影響,；

2、旋轉(zhuǎn)裝置為行星旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),、具鍍膜工藝不同,，設(shè)計(jì)為：變頻調(diào)速，公轉(zhuǎn)式,、公自轉(zhuǎn)結(jié)合式,。采用氣動(dòng)門(mén)鉸，自動(dòng)鎖門(mén),，減少操作程序,，增強(qiáng)真空門(mén)整體的密閉性及減少對(duì)橡膠密封圈的破壞性；

3,、高真空度真空腔體設(shè)計(jì)及制造工藝,，配置進(jìn)口真空泵（分子泵），用戶(hù)可據(jù)自己的需求，隨時(shí)升級(jí)為多功能鍍膜設(shè)備,；

4,、設(shè)備采用原裝進(jìn)口高壓激勵(lì)電路技術(shù)，產(chǎn)生高密度等離子體,，確保出眾的清洗效果,；

5、放電技術(shù)：特殊處理及特殊結(jié)構(gòu)的放電裝置,，確保形成穩(wěn)定均勻的等離子體,；

6、智能控制：PLC智能控制+HMI全彩人機(jī)觸控界面,，實(shí)現(xiàn)邏輯全自動(dòng)控制,；

7、報(bào)警及保護(hù)：全面安全防護(hù)包括：溫度安全防護(hù)功能,、過(guò)載防護(hù)功能,、短路斷路報(bào)警防護(hù)功能，各種誤操作保護(hù)功能,。異常情況進(jìn)行報(bào)警,，并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)措施。

技術(shù)優(yōu)勢(shì)

1,、物質(zhì)的微結(jié)構(gòu)表面會(huì)粘附各種各樣的氣體分子,、微小顆粒、氧化物雜質(zhì)等,，統(tǒng)稱(chēng)為粘附物,，這些粘附物屬于微觀粒子，宏觀的清洗方式不能清除它們,；

2,、這些微觀粘附物會(huì)對(duì)納米級(jí)膜層產(chǎn)生諸多不利影響，影響膜層的結(jié)合力,、清潔度,、光澤、致密度等,；

3,、離子束刻蝕清洗源可以在真空條件下產(chǎn)生高能氬等離子體，轟擊被鍍工件表面,；它不僅可以消除表面粘附物,，還能“刻蝕”物質(zhì)表面氧化物，從而得到“新鮮”物質(zhì)表面,，可以極大地提高薄膜的結(jié)合力,，并提高膜層純度,；

4、離子束清洗工藝通常運(yùn)行在膜層沉積之前,。 清洗各種形狀復(fù)雜的產(chǎn)品,，包括內(nèi)孔內(nèi)壁、均勻清洗,；

5,、設(shè)計(jì)更緊湊合理、美觀,；離子束更穩(wěn)定,；工作功率范圍更寬；清洗刻蝕效率更高,；刻蝕均勻性更好,；性能可靠，操作維修簡(jiǎn)單方便,；產(chǎn)品系列更完整,；

6、應(yīng)用領(lǐng)域,，可以為如下行業(yè)的鍍膜提供表面清洗預(yù)處理：3C消費(fèi)電子,、半導(dǎo)體、光學(xué),、 交通工具,、刀具模具、家電,、新能源,、醫(yī)療,、**航天,、科研等行業(yè)。