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PECVD連續(xù)式磁控濺射鍍膜設(shè)備生產(chǎn)線：是采用多個(gè)真空腔室組成的連續(xù)鍍膜成產(chǎn)線模式,，各階段的真空腔室可按要求定制定數(shù),。制備在低壓和升溫的情況下，等離子子發(fā)生器直接裝在鍍膜板中間發(fā)生反應(yīng),。采用射頻PECVD化學(xué)氣相沉積技術(shù),，沉積速率快，成膜質(zhì)量好,，可鍍膜氧化物薄膜,、氮化物薄膜、無定型硅薄膜和碳化硅薄膜等,。

主要特點(diǎn)

1,、設(shè)備可由：裝載工作臺(tái)+前處理室+離子束清洗室+預(yù)鍍膜室（緩沖室）+磁控濺射鍍膜室+平移室+全自動(dòng)控制系統(tǒng)等組成；全SUS304不銹鋼材質(zhì)制成,。隱藏式雙層冷卻水套設(shè)計(jì),；

2、每一階段的進(jìn)程都可以設(shè)計(jì)成單個(gè)真空腔室或多個(gè)真空腔室,；

3,、傳動(dòng)系統(tǒng)：流軸傳動(dòng)，變頻可調(diào),，感應(yīng)式室門開啟系統(tǒng),；

4、每一階段的工序進(jìn)程之間腔室都采用先進(jìn)的插板閥進(jìn)行腔室隔斷,，可以實(shí)現(xiàn)有效隔斷,，穩(wěn)定工藝氣體；

5,、裝載工作臺(tái)在裝載的同時(shí)設(shè)備生產(chǎn)線所有腔室同步進(jìn)行抽真空,，以達(dá)到工作氣壓要求狀態(tài)。極大縮短了前處理工作時(shí)間,；

6,、生產(chǎn)線采用了均勻進(jìn)氣管結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，氣流注入均勻平緩,；

7,、電氣控制：生產(chǎn)線采用PLC全過程控制,，快速的生產(chǎn)節(jié)拍，配備工業(yè)計(jì)算機(jī)顯示系統(tǒng),，控制屏采用分屏監(jiān)控模式以達(dá)到每腔室每階段的實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)記錄分析,；

8、人機(jī)對話：控制系統(tǒng)能實(shí)現(xiàn)人,、機(jī)對話,，及時(shí)對生產(chǎn)過程進(jìn)行必要干預(yù)。運(yùn)行過程有報(bào)警提示和故障顯示,，故障顯示能提示操作人員正確的操作和排故,。

技術(shù)優(yōu)勢

1、實(shí)現(xiàn)薄膜沉積工藝的低溫化,。工藝控制靈活,、安全、便捷,，在工藝程序上可操作性更大,；在溫控、功率和氣壓控制方面都是全自動(dòng)控制,；

2,、全自動(dòng)控制系統(tǒng)更安全、便捷,；節(jié)省能源,，降低成本；

3,、提高產(chǎn)能,，延長基片壽命；

4,、沉積速率快,，成膜質(zhì)量好；

5,、安全性能更好,，穩(wěn)定性高，工藝穩(wěn)定性好,，膜層均勻性更好；

6,、連續(xù)式磁控濺射鍍膜設(shè)備生產(chǎn)線主要用于表面鍍制高質(zhì)量,、高性能金屬膜、電磁屏蔽膜,、反應(yīng)膜,、復(fù)合膜,、透明導(dǎo)電膜等膜層；

7,、設(shè)備采用全自動(dòng)控制系統(tǒng),，能控制工藝溫度、膜層厚度,，能對微孔內(nèi)壁鍍膜,；

8、設(shè)備對于環(huán)氧樹脂等電路板基體及其導(dǎo)通孔上沉積金屬膜膜層可進(jìn)行連續(xù)式生產(chǎn)線鍍膜,。