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日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器,！
日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的混合模式帶有兩種研磨配置：
斷面加工：將樣品斷面研磨光滑,，便于表面以下結構高分辨成像。
平面研磨：將樣品表面均勻研磨5平方毫米,，從不同角度有選擇地研磨,，以便突出樣品的表面特性。
日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的高通量能提高加工效率：
與之前的E-3500型相比,，采用新型離子槍設計,，減少了橫截面研磨時間。
（**加工率：硅元素為300微米/小時 — 加工時間減少了66%,。
日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的可拆卸樣品臺裝置：
為便于樣品設置和定義研磨邊緣,，可將樣品臺裝置拆卸。
特點 |
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