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NANOVEA公司PS50型三維表面形貌儀
NANOVEA公司PS50型三維表面形貌儀

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美國

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  • 產(chǎn)品簡介:

    PS50型三維表面形貌儀是美國NANOVEA公司推出的一款科研版的三維表面形貌測量設(shè)備,,采用國際前沿的白光共聚焦技術(shù),,可實現(xiàn)對材料表面從納米到毫米量級的粗糙度測試,具有測量精度高,,速度快,,重復性好的優(yōu)點,該儀器性價比高,,可用于取代傳統(tǒng)的探針式表面形貌儀與干涉式表面形貌儀,。

  • 產(chǎn)品原理:采用白光共聚焦色差技術(shù),可獲得納米級的分辨率

- 利用白光點光源,,光線經(jīng)過透鏡后產(chǎn)生色差,,不同波長的光分開后入射到被測樣品上。

- 位于白光光源的對稱位置上的超靈敏探測器系統(tǒng)用來接收經(jīng)被測點漫反射后的光,。

- 根據(jù)準共聚焦原理,,探測器系統(tǒng)只能接收到被測物體上單點反射回來的特定波長的光,從而得到這個點距離透鏡的垂直距離,。

- 再通過點掃描的方式可得到一條線上的坐標,,即X-Z坐標

- 然后以S路徑獲得物體每個點的三維X-Y-Z坐標

- 然后將采集的三維坐標數(shù)據(jù)交給專業(yè)的三維處理軟件進行各種表面參數(shù)的分析。

- 軟件能夠自動獲取用戶關(guān)心的表面形貌參數(shù),。

  • 產(chǎn)品特性:

- 采用白光共聚焦色差技術(shù),,可獲得納米級的分辨率

- 測量具有非破壞性,測量速度快,,精確度高

- 測量范圍廣,,可測透明、金屬材料,,半透明,、高漫反射,,低反射率、拋 光,、粗糙材料(金屬,、玻璃、木頭,、合 成材料,、光學材料、塑料,、涂層,、涂料、漆,、紙,、皮膚、頭發(fā),、牙齒…),;

- 尤其適合測量高坡度高曲折度的材料表面

- 不受環(huán)境光的影響

- 測量簡單,樣品無需特殊處理

- Z方向測量范圍大:為27mm

  • 主要功能:

-可創(chuàng)建任意區(qū)域的2D曲線圖或2D等高線分布圖,;

- 可創(chuàng)建任意區(qū)域的3D圖像,;

- 自動得到樣品的一維線粗糙度參數(shù)(Ra,Rp,,Rv,,Rz,Rc,,Rt,,Rq,Rsk,,Rku),;

- 自動得到樣品的二維面粗糙度(Sa,Sp,,Sq,,Sv,Sz,,Ssk,,Sku);

- 可得到樣品的平整度,,波紋度等參數(shù),;

- 自動校準功能,例如粗糙度,,一般情況下對于曲面樣品,,首先展平,,然后自動給出粗糙度的參數(shù);

- 具有尺寸測量:長度,,寬度,,角度,深度,,臺階高度,;

- 可測孔洞磨損面積,磨損體積等參數(shù),;

- 具有功率譜密度測試功能,;

- 具有分形統(tǒng)計功能,;

......

  • 主要技術(shù)參數(shù):

    - XY全自動掃描范圍:50×50(mm)

    - XY掃描步長:0.1μm

    - 掃描速度:20mm/s

- Z方向測量范圍:27mm

- Z方向測量分辨率:2nm

  • 產(chǎn)品應用:

MEMS,、半導體材料、太陽能,、摩擦磨損,、汽車、腐蝕,、砂紙,、巖石等。

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