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小型狹縫涂布儀

英國(guó)Ossila公司小型狹縫涂布儀結(jié)構(gòu)緊湊,，價(jià)格實(shí)惠,，使用簡(jiǎn)單，準(zhǔn)確度高,。 對(duì)于那些希望在小型實(shí)驗(yàn)室中擴(kuò)大實(shí)驗(yàn)工藝的用戶來(lái)說,，它是理想之選,。與卷對(duì)卷和片對(duì)片沉積工藝相兼容，狹縫涂布是用于可擴(kuò)展沉積薄膜的技術(shù)之一,。其廣泛的加工窗口確保穩(wěn)定,、無(wú)缺陷的沉積，適用于各種粘度的溶液,。薄膜均勻度高,，準(zhǔn)確且可重復(fù)，厚度可通過改變流速和基材速度來(lái)控制,。

產(chǎn)品特征

u 體積小巧---緊湊型桌面設(shè)計(jì),，可放置在標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)臺(tái)，通風(fēng)櫥,，甚至手套箱內(nèi)使用,。

u 輕松設(shè)置---即插即用，不需要壓縮氣體或真空管線,。

u 高交叉網(wǎng)均勻性---衣架式溶液分配設(shè)計(jì),，流速均勻?？色@得高均勻性的涂層,，適用于各種粘度的溶劑。不銹鋼槽模頭可與廣泛的材料兼容,。

u 通道厚度可變---可更換的不銹鋼墊片,，更改槽模通道的厚度。通過插入多個(gè)墊片,，以100μm的間隔增加通道厚度,。

u 均勻的流量和厚度---槽模系統(tǒng)內(nèi)置注射泵。用戶可通過軟件精確控制注射泵進(jìn)入狹縫模頭系統(tǒng)的溶液量,，從而能精確和可重復(fù)地控制沉積膜的厚度,。

u 溫度控制---操作臺(tái)上的內(nèi)置熱板，基板溫度控制在120°C,。軟件中可設(shè)置溫度補(bǔ)償以適應(yīng)高氣流環(huán)境,，校正基板和熱板溫度之間的差異。通過降低表面張力控制基材溫度可改善溶液的潤(rùn)濕性,，同時(shí)干燥速率也可以改變沉積膜的納米結(jié)構(gòu),。

u 基板速度設(shè)置范圍廣泛---操作平臺(tái)可平穩(wěn)，連續(xù)的移動(dòng),。電機(jī)以低至1mm/s的速度到高達(dá)50mm / s的速度移動(dòng),。

u 精確定位---通過使用三點(diǎn)校平系統(tǒng)和高精度千分尺，可以精確調(diào)整平臺(tái)和涂布頭之間的位置,。精細(xì)對(duì)齊可以使系統(tǒng)在平臺(tái)行程范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)低至1um/厘米的高度變化,。

u 涂布頭高度控制---涂布頭架上方預(yù)留了兩個(gè)微米的空間,，用于調(diào)節(jié)涂布頭和平臺(tái)之間的位置。通過調(diào)整狹縫模頭的高度,，改善彎月面的穩(wěn)定性,，改變*小濕膜厚度。

三點(diǎn)調(diào)平系統(tǒng),，狹縫擠出式平臺(tái)可以與涂布頭精確對(duì)準(zhǔn),。

內(nèi)置注射器泵可以精確控制溶液流量和體積。

狹縫擠出頭特別設(shè)計(jì),，整個(gè)涂布寬度內(nèi)可保證均一涂布效果,。

直觀的鍵盤覆FEP保護(hù)膜，有很好的耐溶液腐蝕性,。

內(nèi)置軟件

英國(guó)Ossila公司狹縫涂布儀內(nèi)置系統(tǒng)軟件,，高清全彩色LCD液晶顯示屏，內(nèi)置軟件可編程復(fù)雜的多步驟過程,，系統(tǒng)的不同部分可獨(dú)立控制,。不需要任何外部計(jì)算機(jī)控制。節(jié)省實(shí)驗(yàn)室空間,。系統(tǒng)能夠保存20個(gè)不同的程序,，每個(gè)程序*多包含50個(gè)步驟。便于以后的重復(fù)性實(shí)驗(yàn),。用戶可選擇各種溶液分配速度,，分配量，分配時(shí)間,，階段速度和移動(dòng)的距離,。結(jié)合簡(jiǎn)單易用的控制面板和用戶界面，系統(tǒng)編程可快速完成,。

應(yīng)用領(lǐng)域

u 有機(jī)光伏

u 有機(jī)場(chǎng)效應(yīng)晶體管

u 導(dǎo)電聚合物

u 納米線

u 納米管

u 2D材料

u 有機(jī)發(fā)光二極管

u 鈣鈦礦光伏

u 鈣鈦礦發(fā)光二極管

u 染料敏化太陽(yáng)能電池

還有很多...

技術(shù)規(guī)格

u 狹縫擠出頭材質(zhì)：不銹鋼,。

u 狹縫擠出頭涂布寬度：50mm(*多)。

u 狹縫擠出墊片厚度：100μm,。

u 狹縫擠出墊片套裝：5個(gè)50毫米寬墊片或5個(gè)25毫米寬的墊片。

u 電熱板溫度：120°C,。

u 行程長(zhǎng)度：100mm,。

u 平臺(tái)速度：100μm.s-1。

u 平臺(tái)速度：50mm s-1,。

u 注射器速度：12μm.s-1,。