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ZEISS ΣIGMA熱場發(fā)射掃描電鏡
ZEISS ΣIGMA熱場發(fā)射掃描電鏡

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ZEISS ΣIGMA 電鏡為肖特基(Schottky)熱場發(fā)射掃描電鏡,。目前歐美地區(qū)比較推崇熱場發(fā)射電鏡,,而日本較熱衷于冷場發(fā)射電鏡。

該場發(fā)射掃描電鏡主要有如下特點:

1.探針電流較大,,可達20nA(100nA可選),,可容易進行BSE、EDS,、WDS,、EBSD、CL等分析,。而一般冷場發(fā)射探針電流達不到這個數(shù)量級,,有些分析工作(如WDS,、EBSD、CL等)在冷場電鏡上難以進行,。

2.平行束的電子光學系統(tǒng):

ΣIGMA 系列熱場發(fā)射掃描電鏡鏡筒系統(tǒng)電子光學設計新穎獨特,,稱為GEMINI鏡筒。在光源與樣品之間,,入射電子束不形成交叉點,,這與其它掃描電鏡明顯不同。入射電子束無交叉點光學設計的作用在于:⑴降低入射電子束之間的庫侖統(tǒng)計相互作用(減少電子碰撞,,降低色差),;⑵降低外部環(huán)境雜散磁場對入射電子束的影響。因此,,GEMINI鏡筒設計確保了入射電子束的亮度及圖像分辨率,。特別在低入射能量應用時,上述作用尤為重要,。

3.可擴展性:標配所有的接口,,可以兼容市場上所有的電鏡相關附件,如:能譜儀,、波譜儀,、EBSD、CL,、冷凍臺,、拉伸臺、等離子清洗裝置等,,后續(xù)升級沒有任何障礙,。

4.電子束噪聲較小,<1%,。

5.束流穩(wěn)定度高,,優(yōu)于0.2%/h,適宜于長時間的各種精確分析,。

上述兩項指標其它廠家均未給出,。在理論上冷場發(fā)射要比熱場發(fā)射要差一個數(shù)量級。

6.所需的工作真空度(包括電子槍真空度和樣品室真空度)較低,,對環(huán)境,、樣品要求不高。而冷場發(fā)射電鏡的真空度比熱場要高2個數(shù)量級,,真空系統(tǒng)復雜,,如樣品不清潔、有揮發(fā),、放氣等情況,,抽真空較困難,。

7.采用動態(tài)/靜態(tài)磁透鏡(雙子星座),沒有雜散磁場,,可對鐵磁體樣品進行高分辨率成像,。(蔡司是行內**可以承諾做磁性材料的電鏡品牌)

8.超大樣品室:樣品室尺寸達到365mm(內直徑)×275mm(內高度),五軸馬達驅動全優(yōu)中心樣品臺,,行內**的五軸樣品臺移動范圍:X = 125mm,,Y = 125mm,Z = 50mm,,T = 0 to 90°,,R = 360° ,為使用提供了極大的方便,。

9.抽屜式樣品室拉門,,方便樣品更換及大樣品、形狀復雜樣品的觀察,,**樣品直徑可達250mm以上,,**樣品高度約為145mm。而冷場掃描電鏡由于要求的真空度較高,,不宜破壞樣品室真空,,一般用“樣品交換氣鎖”來更換樣品,操作麻煩,,且進出樣品的尺寸,、形狀受限,一般樣品**直徑不超過100mm,,**樣品高度約為26mm,。

10.采用全自動控制無油式真空系統(tǒng),采用機械泵+磁懸浮分子渦輪泵+離子泵,,無油污染,。

11.獨特的環(huán)形In-lens二次電子探測器,探測效率高,、圓周對稱。而其他廠家的In-lens探測器安裝在一側,,且結構復雜,。

12.維護簡便,且工作穩(wěn)定,。冷場電鏡每8個小時都需要Flash(陰極還原),,且發(fā)射電流不穩(wěn)定,使用維護麻煩,。而熱場電鏡無此麻煩,。

13.末級光欄采用多孔光欄結構,,用電磁方式進行更換和對中調整,操作方便,。鏡筒上無需用戶調整的部件,。

14.高景深:物鏡光欄放在燈絲下,景深行內**,。

15.多功能控制面板:方便進行聚焦,、消像散、電位移,、放大倍率調整等,。

16.可選配光電一體化模塊,實現(xiàn)與光學顯微鏡連用:實現(xiàn)低倍定位,,拍照等功能,。

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ZEISS ΣIGMA熱場發(fā)射掃描電鏡信息由深圳華普通用科技有限公司為您提供,,如您想了解更多關于ZEISS ΣIGMA熱場發(fā)射掃描電鏡報價、型號,、參數(shù)等信息,,歡迎來電或留言咨詢。
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