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德國樣本
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Leica EM ACE200是一款低真空鍍膜儀,,可以選擇離子濺射鍍金屬膜或者碳絲蒸發(fā)鍍碳膜功能,,或者同時具有這兩種功能。能夠滿足日常SEM需求,,也可用于X-射線能譜及波譜分析,,或者TEM銅網(wǎng)鍍碳膜。全自動電腦控制,,自動完成抽真空,,鍍膜,放氣等全過程,,一鍵操作,。采用當下非常流行的觸摸屏控制,簡單方便,。
特點
? 可任選離子濺射模式,、碳絲蒸發(fā)鍍碳模式,或者雙模式,,可選輝光放電(用于網(wǎng)格表面親水化)
? **設(shè)計脈沖式碳絲蒸發(fā)方式,,可精確控制碳膜厚度
? 可選石英膜厚檢測器,精確控制鍍膜厚度,,精度達0.1nm
? 全自動程序控制,,自動完成抽真空,鍍膜,,放氣等過程
? 觸摸屏控制,,簡單方便
? 真空度≤7×10 -3 mbar
? 濺射電流:0-150mA可調(diào)
? 方形樣品倉**設(shè)計,,樣品倉尺寸:140mm(寬)×145mm(深)×150mm(高)
? 工作距離調(diào)節(jié)范圍:30mm-100mm
暫無數(shù)據(jù)!