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憑借過去 60 年的技術(shù)創(chuàng)新歷史和業(yè)內(nèi)領(lǐng)導(dǎo)地位,， FEI 成為了透射電子顯微鏡 (TEM),、 掃描電子顯微鏡 (SEM)、整合了 SEM 與聚焦離子束 (FIB) 的 DualBeam™ 儀器和 用于精密高速切割與加工的專用聚焦離子束儀器的性能標(biāo)準(zhǔn),。 FEI 成像系統(tǒng)在三維 表征,、分析和修改/原型設(shè)計(jì)領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)了亞埃(埃:十分之一納米)級(jí)分辨率。
Prisma& Prisma EX多功能環(huán)境真空鎢燈絲分析掃描電子顯微鏡
一款真正多用途實(shí)驗(yàn)室用性能全面,、易操作的SEM鎢燈絲掃描電子顯微鏡
具有獨(dú)有的ESEM™環(huán)境真空模式
高真空,、低真空和ESEM™環(huán)境真空三種真空模式，適合分析*廣泛的樣品,，樣品范圍包括導(dǎo)電材料,、不導(dǎo)電材料、脫氣,、未鍍膜或其他不適用真空的樣品,。
一系列集成的實(shí)時(shí)分析軟件來完成動(dòng)態(tài)的實(shí)驗(yàn)檢測(cè)分析。
低真空和ESEM環(huán)境真空能夠滿足非導(dǎo)電材料和含稅樣品的檢測(cè)分析
原位功能使即使是絕緣的或高溫的樣品也能獲得可靠的分析結(jié)果,。
支持掃描前的預(yù)設(shè)置,，具有導(dǎo)航和SmartScanTM功能的相機(jī)提高了工作效率、數(shù)據(jù)質(zhì)量和滿足更高要求的使用要求,。
-165°C to 1400°C溫度范圍下的原位分析
加速電壓: 200 V - 30 kV
電子放大倍數(shù): 6x – 1,，000，000x (可同時(shí)采集和顯示四幅圖像)
探測(cè)器：高真空模式Everhart-Thomley二次電子探測(cè)器(E-T SED),；低真空SE探測(cè)器（LVD）,；ESEM環(huán)境真空模式氣體二次電子探測(cè)器（GESD）；樣品室紅外CCD相機(jī)
真空系統(tǒng)：1個(gè)250L/s渦輪分子泵,，1個(gè)旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵,；**的“穿過透鏡”的壓差真空系統(tǒng)；排氣時(shí)間≤3.5min到高真空,，≤4.5min到ESEM真空/低真空,；可選CryoCleaner冷阱；可選升級(jí)到無油滾動(dòng)/干式PVPs
樣品室：
o 內(nèi)徑 340 mm
o 分析工作距離 10 mm
o 12個(gè)附件接口
o EDS采集角: 35°
分辨率：
高真空模式
3.0 nm @ 30 kV (SE)
4.0 nm @ 30 kV (BSE)*
8.0 nm @ 3 kV (SE)
高真空下減速模式
7.0 nm @ 3 kV
低真空模式
3.0 nm @ 30 kV (SE)
4.0 nm @ 30 kV (BSE)
10 nm @ 3 kV (SE)
ESEM環(huán)境真空
3.0 nm @ 30 kV (SE)
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