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ETD-900C是一款具有濺射和蒸發(fā)兩種功能的鍍膜設備,，由一臺ETD900型濺射儀和一個蒸發(fā)電源箱及樣品室蒸發(fā)上蓋組成,，由電纜將兩個機箱中的控制部件連接起來,，通過面板上的按鍵狀態(tài)，經(jīng)濺射機箱中的CPU判別操作項,，以確定允許與否（具體操作見說明書）,。設備使用簡便，性能可靠,，蒸發(fā)材料為碳繩,，濺射材料為金、鉑等,。
型號 | ETD-900c |
儀器尺寸 | 400mm×300mm×400mm（L×W×H） |
靶（上部電極） | 50mm×0.1mm（D×H） |
真空樣品室 | 硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm（D×H） |
樣品臺 | 50mm (D) |
工作電壓 | 0-1200V (DC)可調(diào) |
濺射電流 | 0-50mA |
濺射定時 | 1-3600S |
蒸碳電流 | 0-50A(AC) |
真空泵 | 2升機械旋轉(zhuǎn)泵 |
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