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ETD-2000C 濺射蒸碳儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設計而成的,，*簡單、可靠,、經(jīng)濟的鍍膜設備,。同時增加了熱蒸發(fā)附件，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能,。 滿足電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備和非導體材料實驗電極制作,。特點：
在 ETD-2000/3000 離子濺射儀基礎上，增加了熱蒸發(fā)附件,，可以蒸發(fā)碳絲,，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。因此擴展了應用范圍,，特別適用于掃描電鏡實驗室樣品制備,。
型號 | ETD-2000c |
儀器尺寸 | 400mm×300mm×400mm（L×W×H） |
靶（上部電極） | 50mm×0.1mm（D×H） |
真空樣品室 | 硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm（D×H） |
樣品臺 | 50mm (D) |
操作真空 | 4×10-1mbar至2×10-2mbar |
工作電壓 | 0-1600V (DC)可調(diào) |
濺射電流 | 0-50mA |
濺射定時 | 1-9999S |
蒸碳電流 | 0-10A(AC) |
真空泵 | 2升機械旋轉泵 |
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