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ETD-2000C型離子濺射儀在ETD-2000離子濺射儀基礎上，增加了熱蒸發(fā)附件,，可以蒸發(fā)碳絲,，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。因此擴展了應用范圍,，特別適用于掃描電鏡實驗室樣品制備,。
工作時結合內部自動控制電路很容易控制真空室壓強、電離電流及選擇所需的電離氣體,，獲得**鍍膜效果,。
一款既能濺射金、銀,、銅,、鉑又能蒸發(fā)碳膜的一機多用設備。此款機器具有小巧方便操作簡單成膜效果好之優(yōu)點,，可以滿足廣大SEM用戶樣品制備的需要,。
離子濺射部分是比較常用的鍍膜方式，是以金屬靶材和樣品臺分別作為陰陽兩極,，在真空狀態(tài)下產生輝光放電,，使金原子與殘存的氣體不斷碰撞而沉積成薄膜?？梢允褂肁u,，Pt，Cr,、Al,、Cu等靶材,。
具有成膜均勻，操作簡單,，所需時間短,，過程可控等優(yōu)點。
熱蒸發(fā)部分是把待鍍膜的基片或工件置于真空室內,，通過對鍍膜材料加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積與基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝過程,。通過加熱蒸發(fā)某種物質使其沉積在固體表面，稱為熱蒸發(fā)鍍膜,，熱蒸發(fā)鍍膜技術是歷史*悠久的鍍膜技術之一,。熱蒸發(fā)主要用于蒸發(fā)碳。使用超純的碳纖維繩為嚴格的高分辨掃描電鏡,、透射電鏡,、EBSD及探針分析提供高質量的鍍膜處理。因為碳原子能夠直接沉積在樣品表面而不發(fā)生橫向移動,，所以碳能夠形成小于1nm的顆粒,。
參數(shù)：
儀器尺寸 ：305mm×400mm×390mm（W×D×H）
真空樣品室： 硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm（D×H）
靶（上部電極）：50mm×0.1mm（D×H）
濺射靶材：Au（標配），也可根據(jù)實際情況配備銀靶,、鉑靶等,。
濺射靶材大?。?#966;50mm
樣品臺：樣品臺尺寸可安裝直徑50mm和直徑70mm的樣品臺,，也可根據(jù)自身要求定制樣品臺
濺射工作電壓：0-1600V (DC)可調
濺射電流：0-50mA
濺射定時：0-360S
蒸碳電流 0-100A(AC)
蒸發(fā)材料：碳纖維
蒸發(fā)工作電壓：0-30V
蒸發(fā)時間：0-1S
微型真空氣閥：可連接φ3mm軟管
可通入氣體： 多種
輸入電壓：220V(可做110V)，50HZ
真空泵： 2升機械旋轉泵（國產VRD-8）
特點：
1,、簡單,、經濟、可靠,。
2,、可調節(jié)濺射電流和真空室壓強以控制鍍膜的速率和顆粒的大小。
3,、真空保護可避免真空過低造成設備短路,。
4、同時可以通過更換不同的靶材（金,、鉑,、銥、銀,、銅等）,，以達到更細顆粒的涂層。
5,、通過通入不同的惰性氣體以達到更純凈的涂層,。
6,、數(shù)字計時器定時自由方便。
7,、碳纖維繩更加細膩均勻,、快速，更有利于分析材料結構
需要鍍膜的樣品
1,、電子束敏感的樣品:
主要包括生物樣品,，塑料樣品等。S EM中的電子束具有較高能量,，在與樣品的相互作用過程中,，它以熱的形式將部分能量傳遞給樣品。如果樣品是對電子束敏感的材料,，那這種相互作用會破壞部分甚至整個樣品結構,。這種情況下，用一種非電子束敏感材料制備的表面鍍層就可以起到保護層的作用,，防止此類損傷,；
2、非導電的樣品:
由于樣品不導電,，其表 面帶有“電子陷阱”,， 這種表面上的電子積累 被稱為“充電”。為了 消除荷電效應,，可在樣 品表面鍍一層金屬導電 層,，鍍層作為一個導電 通道，將充電電子從材 料表面轉移走,，消除荷 電效應,。在掃描電鏡成 像時，濺射材料增加信 噪比,，從而獲得更好的成像質量,。
3、新材料:非導電材料和半導體材料
暫無數(shù)據(jù),！
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