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ETD-2000C型離子濺射儀在ETD-2000離子濺射儀基礎(chǔ)上，增加了熱蒸發(fā)附件,，可以蒸發(fā)碳絲,，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。因此擴展了應用范圍,，特別適用于掃描電鏡實驗室樣品制備,。

工作時結(jié)合內(nèi)部自動控制電路很容易控制真空室壓強,、電離電流及選擇所需的電離氣體，獲得**鍍膜效果,。

一款既能濺射金,、銀,、銅,、鉑又能蒸發(fā)碳膜的一機多用設(shè)備。此款機器具有小巧方便操作簡單成膜效果好之優(yōu)點,，可以滿足廣大SEM用戶樣品制備的需要,。

離子濺射部分是比較常用的鍍膜方式,，是以金屬靶材和樣品臺分別作為陰陽兩極，在真空狀態(tài)下產(chǎn)生輝光放電，使金原子與殘存的氣體不斷碰撞而沉積成薄膜,?？梢允褂肁u,，Pt，Cr,、Al,、Cu等靶材,。

具有成膜均勻，操作簡單,，所需時間短,，過程可控等優(yōu)點。

熱蒸發(fā)部分是把待鍍膜的基片或工件置于真空室內(nèi),，通過對鍍膜材料加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積與基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝過程,。通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面,，稱為熱蒸發(fā)鍍膜,，熱蒸發(fā)鍍膜技術(shù)是歷史*悠久的鍍膜技術(shù)之一。熱蒸發(fā)主要用于蒸發(fā)碳,。使用超純的碳纖維繩為嚴格的高分辨掃描電鏡、透射電鏡,、EBSD及探針分析提供高質(zhì)量的鍍膜處理,。因為碳原子能夠直接沉積在樣品表面而不發(fā)生橫向移動,，所以碳能夠形成小于1nm的顆粒,。

參數(shù)：

儀器尺寸 ：305mm×400mm×390mm（W×D×H）

真空樣品室： 硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm（D×H）

靶（上部電極）：50mm×0.1mm（D×H）

濺射靶材：Au（標配），也可根據(jù)實際情況配備銀靶,、鉑靶等,。

濺射靶材大小：φ50mm

樣品臺：樣品臺尺寸可安裝直徑50mm和直徑70mm的樣品臺,，也可根據(jù)自身要求定制樣品臺

濺射工作電壓：0-1600V (DC)可調(diào)

濺射電流：0-50mA

濺射定時：0-360S

蒸碳電流 0-100A(AC)

蒸發(fā)材料：碳纖維

蒸發(fā)工作電壓：0-30V

蒸發(fā)時間：0-1S

微型真空氣閥：可連接φ3mm軟管

可通入氣體： 多種

輸入電壓：220V(可做110V),，50HZ

真空泵： 2升機械旋轉(zhuǎn)泵（國產(chǎn)VRD-8）

特點：

1、簡單,、經(jīng)濟,、可靠,。

2,、可調(diào)節(jié)濺射電流和真空室壓強以控制鍍膜的速率和顆粒的大小,。

3,、真空保護可避免真空過低造成設(shè)備短路。

4,、同時可以通過更換不同的靶材（金,、鉑,、銥,、銀、銅等）,，以達到更細顆粒的涂層,。

5,、通過通入不同的惰性氣體以達到更純凈的涂層。

6,、數(shù)字計時器定時自由方便。

7,、碳纖維繩更加細膩均勻,、快速，更有利于分析材料結(jié)構(gòu)

需要鍍膜的樣品

1,、電子束敏感的樣品:

主要包括生物樣品，塑料樣品等,。S EM中的電子束具有較高能量，在與樣品的相互作用過程中,，它以熱的形式將部分能量傳遞給樣品,。如果樣品是對電子束敏感的材料,，那這種相互作用會破壞部分甚至整個樣品結(jié)構(gòu)。這種情況下,，用一種非電子束敏感材料制備的表面鍍層就可以起到保護層的作用,，防止此類損傷；

2,、非導電的樣品:

由于樣品不導電,，其表 面帶有“電子陷阱”， 這種表面上的電子積累 被稱為“充電”,。為了 消除荷電效應,，可在樣 品表面鍍一層金屬導電 層，鍍層作為一個導電 通道,，將充電電子從材 料表面轉(zhuǎn)移走,，消除荷 電效應,。在掃描電鏡成 像時，濺射材料增加信 噪比,，從而獲得更好的成像質(zhì)量,。

3、新材料:非導電材料和半導體材料