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離子濺射儀ETD-2000
離子濺射儀ETD-2000

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ETD-2000 型離子濺射儀外觀沉穩(wěn)大氣,,采用真空自動(dòng)控制和真空保護(hù)電路,,使操作和應(yīng)用更加安全可靠。為擴(kuò)大應(yīng)用領(lǐng)域,,可同時(shí)手動(dòng)調(diào)整濺射儀的電離電流或手動(dòng)調(diào)整其真空微調(diào)針閥,,改變電離室的壓強(qiáng),獲得**的噴鍍效果,。獨(dú)特的真空橡膠壓邊密封結(jié)構(gòu),,保證長(zhǎng)期使用不會(huì)使鐘罩邊緣出現(xiàn)毛邊而影響真空室中的真空度,陶瓷密封高壓插頭經(jīng)久耐用,。

工作時(shí)結(jié)合內(nèi)部自動(dòng)控制電路很容易控制真空室壓強(qiáng),、電離電流及選擇所需的電離氣體,獲得**鍍膜效果,。

ETD-2000型是一款*常用的離子濺射儀,,是一切濺射儀的基礎(chǔ)。是以金屬靶材和樣品臺(tái)分別作為陰陽(yáng)兩極,,在真空狀態(tài)下產(chǎn)生輝光放電,,使金原子與殘存的氣體不斷碰撞而沉積成薄膜??梢允褂肁u,,Pt,Cr,、Al,、Cu等靶材。

具有成膜均勻,操作簡(jiǎn)單,,所需時(shí)間短,,過(guò)程可控等優(yōu)點(diǎn)。

配有高位定性真空泵

參數(shù):

主機(jī)規(guī)格:305mm×365mm×325mm(W×D×H)

靶(上部電極):金:50mm×0.1mm(D×H)

靶材:Au(標(biāo)配),,也可根據(jù)實(shí)際情況配備銀靶,、鉑靶等

樣品室:硼硅酸鹽玻璃160mm×120mm(D×H)

靶材尺寸:Ф50mm

真空指示表: **真空度:≤ 4X10-2 mbar

離子電流表: **電流:50mA

定時(shí)器: *長(zhǎng)時(shí)間:3600s

微型真空氣閥:可連接φ3mm軟管

可通入氣體: 多種

**電壓: -1600 DCV

輸入電壓:220V(可做110V),50HZ

機(jī)械泵:標(biāo)準(zhǔn)配置2L/S(國(guó)產(chǎn)VRD-8)

特點(diǎn):

1,、簡(jiǎn)單,、經(jīng)濟(jì)、可靠,。

2,、可調(diào)節(jié)濺射電流和真空室壓強(qiáng)以控制鍍膜的速率和顆粒的大小。

4,、真空保護(hù)可避免真空過(guò)低造成設(shè)備短路,。

5、同時(shí)可以通過(guò)更換不同的靶材(金,、鉑,、銥、銀,、銅等),,以達(dá)到更細(xì)顆粒的涂層。

6,、通過(guò)通入不同的惰性氣體以達(dá)到更純凈的涂層,。

7、數(shù)字計(jì)時(shí)器定時(shí)自由方便,。

8,、計(jì)時(shí)器可隨時(shí)停止,觀察樣品涂層,,并可繼續(xù)工作,。

9、可調(diào)節(jié)樣品臺(tái),,適用于多種樣品,。

需要鍍膜的樣品

1、電子束敏感的樣品:

主要包括生物樣品,,塑料樣品等,。S EM中的電子束具有較高能量,在與樣品的相互作用過(guò)程中,,它以熱的形式將部分能量傳遞給樣品,。如果樣品是對(duì)電子束敏感的材料,,那這種相互作用會(huì)破壞部分甚至整個(gè)樣品結(jié)構(gòu)。這種情況下,,用一種非電子束敏感材料制備的表面鍍層就可以起到保護(hù)層的作用,,防止此類損傷,;

2,、非導(dǎo)電的樣品:

由于樣品不導(dǎo)電,其表 面帶有“電子陷阱”,, 這種表面上的電子積累 被稱為“充電”,。為了 消除荷電效應(yīng),可在樣 品表面鍍一層金屬導(dǎo)電 層,,鍍層作為一個(gè)導(dǎo)電 通道,,將充電電子從材 料表面轉(zhuǎn)移走,消除荷 電效應(yīng),。在掃描電鏡成 像時(shí),,濺射材料增加信 噪比,從而獲得更好的成像質(zhì)量,。

3,、新材料:非導(dǎo)電材料和半導(dǎo)體材料

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產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性價(jià)比

10分
評(píng)論內(nèi)容
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