參考價(jià)格
面議型號(hào)
品牌
產(chǎn)地
北京樣本
暫無看了磁控濺射儀SD-900M的用戶又看了
虛擬號(hào)將在 180 秒后失效
使用微信掃碼撥號(hào)
SD-900M 型離子濺射儀外觀亮麗做工精致,。一般針對(duì)不耐高溫的樣品(如:薄膜類樣品,樹脂類等等)
磁控濺射是物理氣相沉積的一種,。
一般的濺射法可被用于制備金屬,、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料,,且具有設(shè)備簡(jiǎn)單,、易于控制,、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),,
磁控濺射法更是實(shí)現(xiàn)了高速、低溫,、低損傷,。因?yàn)槭窃诘蜌鈮合逻M(jìn)行高速濺射,必須有效地提高氣體的離化率,。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場(chǎng),,利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。
需要鍍膜的樣品
1,、電子束敏感的樣品:
主要包括生物樣品,,塑料樣品等。SEM中的電子束具有較高能量,,在與樣品的相互作用過程中,,它以熱的形式將部分能量傳遞給樣品,。如果樣品是對(duì)電子束敏感的材料,那這種相互作用會(huì)破壞部分甚至整個(gè)樣品結(jié)構(gòu),。這種情況下,,用一種非電子束敏感材料制備的表面鍍層就可以起到保護(hù)層的作用,防止此類損傷,;
2,、非導(dǎo)電的樣品:
由于樣品不導(dǎo)電,其表 面帶有“電子陷阱”,, 這種表面上的電子積累 被稱為“充電”,。為了 消除荷電效應(yīng),可在樣 品表面鍍一層金屬導(dǎo)電 層,,鍍層作為一個(gè)導(dǎo)電 通道,,將充電電子從材 料表面轉(zhuǎn)移走,消除荷 電效應(yīng),。在掃描電鏡成 像時(shí),,濺射材料增加信 噪比,從而獲得更好的成像質(zhì)量,。
3,、新材料:非導(dǎo)電材料和半導(dǎo)體材料
原理:
在磁控濺射中,由于運(yùn)動(dòng)電子在磁場(chǎng)中受到洛侖茲力,,它們的運(yùn)動(dòng)軌跡會(huì)發(fā)生彎曲甚至產(chǎn)生螺旋運(yùn)動(dòng),,其運(yùn)動(dòng)路徑變長(zhǎng),因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數(shù),,使等離子體密度增大,,從而磁控濺射速率得到很大的提高,而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作,,降低薄膜污染的傾向,;另一方面也提高了入射到襯底表面的原子的能量,因而可以在很大程度上改善薄膜的質(zhì)量,。同時(shí),,經(jīng)過多次碰撞而喪失能量的電子到達(dá)陽(yáng)極時(shí),已變成低能電子,,從而不會(huì)使基片過熱,。
參數(shù):
主機(jī)規(guī)格:300mm×360mm×380mm(W×D×H)
靶(上部電極):金:50mm×0.1mm(D×H)
靶材:Au(標(biāo)配)也可根據(jù)實(shí)際情況配備銀靶、鉑靶等
樣品室:硼硅酸鹽玻璃160mm×120mm(D×H)
樣品臺(tái):可安裝直徑50mm和直徑70mm的樣品臺(tái),,也可根據(jù)自身要求定制樣品臺(tái)
靶材尺寸:Ф50mm
真空指示表: **真空度:≤ 4X10-2 mbar
離子電流表: **電流:100mA
定時(shí)器: *長(zhǎng)時(shí)間:0-360S
微型真空氣閥:可連接φ3mm軟管
可通入氣體: 多種
**電壓: -1600 DCV
機(jī)械泵:標(biāo)準(zhǔn)配置2L/S(國(guó)產(chǎn)VRD-8)
輸入電壓:220V(可做110V),,50HZ
特點(diǎn):
1、經(jīng)濟(jì),、可靠,、外觀精美,。
2、成膜速率高,。
3,、基片溫度低。
4,、膜的粘附性好,。
5、可實(shí)現(xiàn)大面積鍍膜,。
6,、可調(diào)節(jié)濺射電流和真空室壓強(qiáng)以控制鍍膜的速率和顆粒的大小。
7,、SETPLASMA手動(dòng)啟動(dòng)按鈕可預(yù)先設(shè)置好壓強(qiáng)和濺射電流避免對(duì)膜造成不必要的損傷,。
8、真空保護(hù)可避免真空過低造成設(shè)備短路,。
暫無數(shù)據(jù),!