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面議型號(hào)
FE-300品牌
大塚電子產(chǎn)地
江蘇樣本
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特 長
薄膜到厚膜的測量范圍、UV~NIR光譜分析
高性能的低價(jià)光學(xué)薄膜量測儀
藉由**反射率光譜分析膜厚
完整繼承FE-3000高端機(jī)種90%的強(qiáng)大功能
無復(fù)雜設(shè)定,，操作簡單,，短時(shí)間內(nèi)即可上手
線性*小平方法解析光學(xué)常數(shù)（n:折射率、k:消光系數(shù)）
測量項(xiàng)目
**反射率測量
膜厚解析（10層）
光學(xué)常數(shù)解析（n：折射率,、k：消光系數(shù)）
產(chǎn)品規(guī)格
FE-300V | FE-300UV | FE-300NIR※1 | ||
|---|---|---|---|---|
對應(yīng)膜厚 | 標(biāo)準(zhǔn)型 | 薄膜型 | 厚膜型 | 超厚膜型 |
樣品尺寸 | **8寸晶圓（厚度5mm） | |||
膜厚范圍 | 100nm ~ 40μm | 10nm ~ 20μm | 3μm ~ 300μm | 15μm ~ 1.5mm |
波長范圍 | 450nm ~ 780nm | 300nm ~ 800nm | 900nm ~ 1600nm | 1470nm ~ 1600nm |
膜厚精度 | ±0.2nm以內(nèi)※2 | - | ||
重復(fù)再現(xiàn)性（2σ） | ±0.1nm以內(nèi)※3 | - | ||
測量時(shí)間 | 0.1s ~ 10s以內(nèi) | |||
量測口徑 | 約φ3mm | |||
光源 | 鹵素?zé)?/p> | UV用D2燈 | 鹵素?zé)?/p> | 鹵素?zé)?/p> |
通訊界面 | USB | |||
尺寸重量 | 280（W）× 570（D）×350（H）mm,，約24kg | |||
軟體功能 | ||||
標(biāo)準(zhǔn)功能 | 波峰波谷解析、FFT解析,、*適化法解析,、*小二乘法解析 | |||
選配功能 | 材料分析軟件、薄膜模型解析,、標(biāo)準(zhǔn)片解析 | |||
※1 請于本公公司聯(lián)系聯(lián)系我們
※2 對比VLSI標(biāo)準(zhǔn)樣品（100nm SiO2/Si）,，范圍值同保證書所記載
※3 測量VLSI標(biāo)準(zhǔn)樣品（100nm SiO2/Si）同一點(diǎn)位時(shí)之重復(fù)再現(xiàn)性。（擴(kuò)充系數(shù)2.1）
應(yīng)用范圍
半導(dǎo)體晶圓膜（光阻,、SOI,、SiO2等）
光學(xué)薄膜（OC膜、AR膜,、ITO,、IZO膜等）
測量范例
PET基板上的DLC膜
Si基板上的SiNx
暫無數(shù)據(jù)！
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大塚電子利用光技術(shù),，開發(fā)出各種分析測量裝置，給客戶提供尖端測量技術(shù)支持。以測量技術(shù),、應(yīng)用示例等重點(diǎn)介紹為主,，定期舉辦Webinar(網(wǎng)絡(luò)研討會(huì)),。
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