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全自動單片清洗機(jī)品牌
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1,、用于硅、碳化硅,、氮化鎵等半導(dǎo)體材料的單片腐蝕,、清洗、刷洗工藝,。
2,、機(jī)臺可實(shí)現(xiàn)多尺寸兼容(4&6寸;6&8寸;8&12寸)。
3,、工藝腔體經(jīng)過優(yōu)化設(shè)計,，高性能FFU,配合可調(diào)節(jié)高度的CUP,形成一個穩(wěn)定強(qiáng)度的downflow,，嚴(yán)格控制wafer表面工藝區(qū)域的動態(tài)環(huán)境,。
4、可以實(shí)現(xiàn)藥液(酸/堿/有機(jī))的排廢分離,，無藥液的交叉污染,。
5、可適用襯底及外延清洗,、PRstrip,、Oxideremoval等工藝。
6,、支持 GEM/SECS 協(xié)議,，支持MES 系統(tǒng)聯(lián)機(jī)。
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