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l 種子活力檢測

l 種子,，幼苗,，根系

l 作物種質(zhì)資源表型檢測

l 作物種質(zhì)資源活力與性狀監(jiān)測評估

l 光譜成像、熒光光纖傳感器集成技術(shù),，高通量,、非損傷

表型性狀包括形態(tài)結(jié)構(gòu)、活力,、適合度,、抗逆性、脅迫敏感性,、生理生化指標(biāo)等是作物種質(zhì)資源品質(zhì)監(jiān)測評估的重要指標(biāo)體系,，其中種子活力是種子發(fā)芽和出苗率,、幼苗生長的潛勢、植株抗逆能力和生產(chǎn)潛力的總和（發(fā)芽和出苗期間的活性水平與行為）,，是種子品質(zhì)的重要指標(biāo),，具體包括吸漲后旺盛的代謝強(qiáng)度、出苗能力,、抗逆性,、發(fā)芽速度及同步性、幼苗發(fā)育與產(chǎn)量潛力,。種子活力是植物的重要表型特征,，傳統(tǒng)檢測方法包括低溫測試（cold test）、高溫加速衰老測試（accelerated aging test）,、幼苗生長測定等,。

PhenoTron作物種質(zhì)資源監(jiān)測鑒定平臺(tái)是種子活力檢測、種質(zhì)資源表型性狀監(jiān)測評估的綜合系統(tǒng)平臺(tái),，包括種子與幼苗根系形態(tài)測量,、智能LED光源培養(yǎng)、呼吸強(qiáng)度檢測,、種苗葉綠素?zé)晒獬上駲z測等現(xiàn)代技術(shù),，全面檢測種質(zhì)資源的形態(tài)與呼吸代謝強(qiáng)度（耗氧率）、發(fā)芽及其抗逆性等表型性狀指標(biāo),，是目前種質(zhì)資源*全面***的的綜合檢測評估平臺(tái),、種子及種苗-根系表型分析的**組合。

主要技術(shù)特點(diǎn)：

1) 智能LED光源技術(shù),，PAR光照強(qiáng)度0-100可調(diào),，可模擬晝夜節(jié)律，可選配2層或多層培養(yǎng),，可選配步入式生長箱及集裝箱式生長艙（氣候模擬艙）

2) 熒光光纖傳感器技術(shù),，O2、pH,、溫度多參數(shù)監(jiān)測，用于高通量檢測種子呼吸代謝強(qiáng)度

3) FluorCam葉綠素?zé)晒獬上窦夹g(shù),，高通量,、高靈敏度檢測種苗活力、光合效率及抗逆性,，種質(zhì)資源生理功能數(shù)字化數(shù)據(jù)庫建設(shè)等

4) 高光譜成像分析技術(shù),，以進(jìn)一步分析種子的反射光譜、種子含水量,、種質(zhì)資源生理生化指標(biāo),、種植資料光譜數(shù)據(jù)庫建立等

5) Thermo-RGB紅外熱成像技術(shù),，用于種子萌發(fā)散熱測量（反應(yīng)種子代謝強(qiáng)度等）及氣孔動(dòng)態(tài)分析等

6) 可選配大型全自動(dòng)高通量傳送帶式或XYZ掃描式表型成像分析平臺(tái)，包括葉綠素?zé)晒獬上瘛?/span>3DRGB成像,、高光譜成像等

主要技術(shù)指標(biāo)（根據(jù)客戶定制系統(tǒng)而定）：

1) 種子形態(tài)測量參數(shù)：種子數(shù)量,、長度、寬度,、體積大小,、表面積、周長及顏色分析

2) 智能LED培養(yǎng)臺(tái),，標(biāo)配冷白光＋紅外光（模擬自然光照）,，光照強(qiáng)度0～250μmol(光量子)/m2.s（強(qiáng)度可根據(jù)需求升級(jí)）智能可調(diào)制模擬自然光照，程序模擬晝夜節(jié)律等

3) 種子高通量呼吸代謝強(qiáng)度檢測,，由帶粘貼式熒光光纖氧氣傳感器的封閉式24孔多孔板,、氧氣測量主機(jī)模塊及在線數(shù)據(jù)采集分析軟件組成，多個(gè)氧氣測量主機(jī)模塊（*多為10個(gè)）可以連接在一起組成*多240個(gè)通道的高通量測量系統(tǒng),，氧氣測量范圍0-50%或0-22.5mg/l,，分辨率±5μ[email protected]μmol，響應(yīng)時(shí)間小于30s

4) 葉綠素?zé)晒獬上駵y量,，可運(yùn)行Fv/Fm,、Kautsky誘導(dǎo)效應(yīng)、熒光淬滅,、光響應(yīng)曲線,、GFP／YFP、PAR吸收及NDVI等protocols,，測量參數(shù)包括PI（performance index）,、適合度指數(shù)Rfd、光量子通量,、光化熒光淬滅與非光化熒光淬滅等幾十個(gè)葉綠素?zé)晒鈪?shù)及NDVI,、PAR吸收、GFP等,；可通過“面具”技術(shù)自動(dòng)選取多孔板等種子萌發(fā)幼苗

5) SpectraScan高光譜成像分析測量,，光譜范圍400-1000nm或選配900-1700nm、1000-2500nm近紅外高光譜