美國產(chǎn)Plasma Cleaning System

小型實(shí)驗(yàn)室等離子表面處理機(jī)

等離子表面處理機(jī)是一種非破壞性的表面處理設(shè)備,，它是利用能量轉(zhuǎn)換技術(shù),，在一定真空負(fù)壓的狀態(tài)下，以電能將氣體轉(zhuǎn)化為活性極高的氣體等離子體,，氣體等離子體能輕柔沖刷固體樣品表面,，引起分子結(jié)構(gòu)的改變，從而達(dá)到對(duì)樣品表面有機(jī)污染物進(jìn)行超清洗,，在極短時(shí)間內(nèi)有機(jī)污染物就被外接真空泵徹底抽走,，其清洗能力可以達(dá)到分子級(jí)。在一定條件下還能使樣品表面特性發(fā)生改變,。因采用氣體作為清洗處理的介質(zhì),，所以能有效避免樣品的再次污染。等離子清洗器既能加強(qiáng)樣品的粘附性,、相容性和浸潤性,，也能對(duì)樣品進(jìn)行消毒和殺菌。等離子清洗器現(xiàn)已廣泛應(yīng)用于光學(xué),、光電子學(xué),、電子學(xué)、材料科學(xué),、高分子,、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域,。小型等離子清洗機(jī)以體積小,、成本低、操作簡便等特點(diǎn)廣泛應(yīng)用于科研及小批量生產(chǎn)場合,。

PE-50參數(shù)：

外部尺寸： W356mm x H540mm x D495mm 重量：24kg

耐用的焊接6061 T6鋁合金真空腔,；

真空腔尺寸：W140mm x H89mm x D179mm

等離子發(fā)生器：功率 max.150w（可調(diào)）頻率：50kHz

供氣：氣體流量控制器 0-25cc/min w/精密針形閥。

壓力測量：熱電偶真空計(jì) 0-1Torr.

電源：115VAC,，15A 功率：400W 供氣：6mm連接件

控制器：PLC微電腦控制系統(tǒng),。鍵盤用戶界面，數(shù)字字母顯示器,。方案工藝可以進(jìn)行自動(dòng)處理,。

附件（可選件）

抽氣裝置：推薦型號(hào)：5 CFM 2級(jí) 直驅(qū)真空油泵

氧氣發(fā)生器

附加第二氣體通道,。附加第二氣體控制器，0-25cc/min

100w,， 13.56Mhz可自動(dòng)調(diào)節(jié)射頻發(fā)生器

升級(jí)裝置：

PC /筆記本電腦的控制系統(tǒng)：裝載有等離子蝕刻軟件的一臺(tái)筆記本電腦是包括全自動(dòng)系統(tǒng)操作,，

流程排序，多配方存儲(chǔ),，以及其他高級(jí)功能,。

質(zhì)量流量控制器：附加質(zhì)量流量控制器也可提供。

功能：

對(duì)金屬,、玻璃,、硅片、陶瓷,、塑料,、聚合物表面的有機(jī)污染物 （如石蠟、油污,、脫膜劑,、蛋白等）進(jìn)行超A A清洗。

改變某些材料表面的性能,。

使玻璃,、塑料、陶瓷等材料表面活化,，加強(qiáng)這些材料的粘附性,、相容性和浸潤性。

清除金屬材料表面的氧化層,。

對(duì)被清洗物進(jìn)行消毒,、殺菌。

From the beginning,， our developments have been driven by the needs of our customers."

Richard DeLarge: Founder,，

PE成立于1980年，致力于提供電子行業(yè)用的等離子設(shè)備及相關(guān)服務(wù),。通過幾十年的發(fā)展,，公司發(fā)展成為提供等離子設(shè)備方面的專家，可為客戶提供專業(yè)的產(chǎn)品和解決方案,，先后為眾多知名企業(yè)提供等離子處理設(shè)備,，如美國宇航局NASA， 美國波音Boeing,，**的電子保安系統(tǒng)產(chǎn)品制造商美國霍尼韋爾Honeywell,，美國摩托羅拉Moto， 德國拜耳Bayer,，世界軍用飛機(jī)的領(lǐng)軍企業(yè)美國洛克希德馬丁Lockheed-Martin等等,。

PE擁有多項(xiàng)***,，在開發(fā)和制造等離子設(shè)備方面有許多突破性創(chuàng)新,，擁有等離子體技術(shù)和制造技術(shù)領(lǐng)域里尖端的技術(shù),。這些**技術(shù)的產(chǎn)品線是公司獨(dú)有的，生產(chǎn)的等離子設(shè)備是業(yè)界公認(rèn)的集清洗速度,、完整均勻性,、安全可靠性為一體的等離子處理設(shè)備。

專業(yè)溫控技術(shù)

在等離子體處理過程中,，溫度是確保均勻性,、有效性的一個(gè)重要參數(shù)。Plasma Etch生產(chǎn)的等離子設(shè)備具有可直接調(diào)節(jié)電極溫度的**技術(shù),。通過電腦程序的自動(dòng)控制可保證整個(gè)等離子處理過程中溫度的穩(wěn)定性,。這種技術(shù)是成熟且高度可靠的，并可由操作者操作控制,。

操作者可在系統(tǒng)控制范圍內(nèi)設(shè)置任何溫度并自動(dòng)保持該溫度,，可在溫度范圍內(nèi)設(shè)置成**溫度來處理任何材料和基底，從而可以以*快的速度處理樣品,。無需預(yù)熱或者預(yù)啟動(dòng)等離子設(shè)備就可以間歇的處理樣品或者不斷的重復(fù)處理過程,。

**靜電屏蔽技術(shù)

我們與許多行業(yè)進(jìn)行合作并進(jìn)行大量的研究，許多公司采用我們具有**技術(shù)和特點(diǎn)的真空腔,，真空腔采用航空級(jí)鋁合金材料,，具有非常好的耐用性。研究表明,，采用鋁合金作為腔體可以微調(diào)每個(gè)等離子處理過程直到**的均勻性,。等離子處理過程控制不恰當(dāng)?shù)脑挄?huì)導(dǎo)致對(duì)樣品的損壞，均勻性欠佳導(dǎo)致某些地方燒焦,、彎曲或者損壞樣品,，對(duì)此我們改進(jìn)了設(shè)計(jì)。采用我們的**靜電屏蔽技術(shù)就可以使得等離子體高效且均勻在電極表面穿流而過,，這一技術(shù)大大降低了等離子處理過程中對(duì)樣品的損傷,。該電磁屏蔽技術(shù)是Plasma Etch獨(dú)有的**技術(shù)。

系統(tǒng)控制軟件

PE生產(chǎn)的等離子設(shè)備和控制軟件的接口都是獨(dú)特的,，軟件可以監(jiān)控和自動(dòng)控制處理進(jìn)程,，如下：

1.創(chuàng)建等離子處理工藝流程

2.監(jiān)控和記錄處理數(shù)據(jù)

3.設(shè)置數(shù)據(jù)警報(bào)點(diǎn)

4.存儲(chǔ)過程數(shù)據(jù)

5.實(shí)時(shí)自動(dòng)監(jiān)測處理工藝

6.創(chuàng)建特定樣品的處理工藝流程

7.制定連續(xù)的處理任務(wù)

通過使用該控制軟件，可以精確的控制等離子處理過程的每一個(gè)環(huán)節(jié),，并能夠從程序中刪除失誤操作,。

更快地刻蝕速度

PE的等離子設(shè)備刻蝕速度是其他等離子設(shè)備的3倍以上。獨(dú)特的設(shè)計(jì)和**技術(shù),，如溫控技術(shù)和靜電屏蔽的結(jié)合使我們能夠在等離子體處理上提供****的質(zhì)量與速度,。

應(yīng)用領(lǐng)域

目前設(shè)備廣泛應(yīng)用于：等離子清洗,、刻蝕、灰化,、涂鍍和表面處理,，在真空電子、LED,、太陽能光伏,、集成電路、生命科學(xué),、半導(dǎo)體科研,、半導(dǎo)體封裝、芯片制造,、MEMS器件等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用,。

公司發(fā)展歷程

1980年初– 公司成立并生產(chǎn)首臺(tái)等離子系統(tǒng)；1980年底- 為線路板企業(yè)提供等離子處理設(shè)備,；1987年- 發(fā)明TRUE等離子控溫**技術(shù),，獨(dú)立控制并能保持整個(gè)等離子處理過程中溫度的穩(wěn)定性；1988年– 公司擴(kuò)大搬遷至California,， USA,；1989年– 生產(chǎn)首臺(tái)電腦控制等離子處理設(shè)備；.1992年– ***電磁屏蔽技術(shù),；.1994年– 生產(chǎn)PE-1000聯(lián)機(jī)等離子處理設(shè)備,；1996年– 生產(chǎn)自動(dòng)機(jī)器人裝卸系統(tǒng)；

1996年– 公司擴(kuò)大搬遷至Nevada,， USA.1997年– 生產(chǎn)MK-III等離子盲鉆系統(tǒng),；1998年– 生產(chǎn)TT-1 旋轉(zhuǎn)式等離子處理系統(tǒng)；

2000年- 生產(chǎn)PE-2000R卷輪式/滾動(dòng)式等離子處理系統(tǒng),；2003年– 改進(jìn)BT-1刻蝕機(jī),；2004年– 增加PE-200和BT-1基于windows的控制軟件和觸屏功能2005年– 生產(chǎn)臺(tái)式PE-100；2010年–生產(chǎn)臺(tái)式PE-50,；2012年– 研制不需要CF4操作的麥格納系列