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PLUTO-MH等離子表面處理系統(tǒng)(實驗平臺)

PLUTO-MH型等離子體表面處理系統(tǒng)是針對于高校，科學研究所和企業(yè)實驗室,，或者小批量生產的創(chuàng)新性企業(yè)而研發(fā)的創(chuàng)新型實驗平臺,。我們收集了大量客戶使用信息，分析應用需求,，將多年設計和制造經驗應用于小型化,，多功能的等離子體表面處理設備。無論是設計理念,，零配件的選用,，都傾注大量精力。

針對用戶不同的需求,，我們提供不同功能附件,，在獲得常規(guī)性能的同時，擁有表面鍍膜（涂層）,，刻蝕,，等離子化學反應，粉體等離子體處理等多種能力,。

產品特點：

針對于對等離子體處理有嚴苛要求的場合中使用

等離子源才用頻率為13.56MHz射頻發(fā)生器,，兼顧物理反應和化學反應

采用500W功率電源，自動阻抗匹配,，高功率射頻發(fā)生器可應對各種實驗要求,，保障高能量密度和高處理效率

高精度真空度控制，適應各種處理需求

316不銹鋼腔體（或者6061鋁合金）,，全不銹鋼管路和連接件,，適用各種氣體（包含腐蝕性氣體）

4.3寸工業(yè)級觸摸屏,，軟件操作方便，多種參數設置和工藝組合處理模式

可增加多種配件,，涂覆鍍膜,，電極溫度控制，等離子體強度控制,，等離子體化學反應等功能（如有特殊應用,，請咨詢銷售人員）

根據用戶需求，提供對應等離子體處理方案和定制特殊用途設備

產品參數:

1. 真空腔規(guī)格: 316不銹鋼腔體,，直徑210mm*(深)230mm 約4L

2. 電極：兩個自適應平板電極,，材質T6061鋁合金(可提供特氟龍包覆無孔平板電極，適合需要雙面處理樣品)

3. 電極尺寸：120*135mm 間距20~75mm 可調(可反轉)

4. 等離子體發(fā)生器：RF射頻發(fā)生器,，頻率：13.56MHz

5. 功率：0-500W連續(xù)可調,，自動阻抗匹配，精度1W

6. 氣體控制：針式氣體流量閥,，標配1路氣體,，全不銹鋼管道和連接件

7. 控制方式：4.3寸工業(yè)控制觸摸屏

控制軟件功能：界面顯示實時工作狀態(tài)，

可顯示設置值與實際值,，便于實時控制,。

可自由設置等離子功率，通入氣體時間

多級操作權限,，多種工藝參數組合控制,，

全手動控制和全自動控制可選

8. 保護裝置：一鍵急停保護按鈕

(如需其他功能，請咨詢銷售人員)

應用領域:

配置不同模塊,，拓展不同應用

加熱電極模塊-溫度可控,，可以加速等離子體處理速度和極大提高樣品處理的均勻性

沉積鍍膜模塊，改變表面特性：

沉積CF材料,，樣品表面可以具有憎水的特性

沉積含苯材料,，樣品表面起到絕緣防水的特性

沉積含有羥基的材料，提高樣品表面和其他材料的結合效果

感應耦合模塊-感應耦合等離子體裝置

氣體混合裝置

可以根據可以要求進行混氣設計

氣體純化和反應

氣體純化和使用等離子體與相關材料進行化學反應