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PLUTO-MH等離子表面處理系統(tǒng)(實驗平臺)
PLUTO-MH型等離子體表面處理系統(tǒng)是針對于高校,科學研究所和企業(yè)實驗室,,或者小批量生產(chǎn)的創(chuàng)新性企業(yè)而研發(fā)的創(chuàng)新型實驗平臺,。我們收集了大量客戶使用信息,分析應用需求,,將多年設(shè)計和制造經(jīng)驗應用于小型化,,多功能的等離子體表面處理設(shè)備。無論是設(shè)計理念,,零配件的選用,,都傾注大量精力。
針對用戶不同的需求,,我們提供不同功能附件,,在獲得常規(guī)性能的同時,擁有表面鍍膜(涂層),,刻蝕,,等離子化學反應,粉體等離子體處理等多種能力,。
針對于對等離子體處理有嚴苛要求的場合中使用
等離子源才用頻率為13.56MHz射頻發(fā)生器,兼顧物理反應和化學反應
采用500W功率電源,自動阻抗匹配,,高功率射頻發(fā)生器可應對各種實驗要求,,保障高能量密度和高處理效率
高精度真空度控制,適應各種處理需求
316不銹鋼腔體(或者6061鋁合金),,全不銹鋼管路和連接件,,適用各種氣體(包含腐蝕性氣體)
4.3寸工業(yè)級觸摸屏,軟件操作方便,,多種參數(shù)設(shè)置和工藝組合處理模式
可增加多種配件,,涂覆鍍膜,電極溫度控制,,等離子體強度控制,,等離子體化學反應等功能(如有特殊應用,請咨詢銷售人員)
根據(jù)用戶需求,,提供對應等離子體處理方案和定制特殊用途設(shè)備
產(chǎn)品參數(shù):
1. 真空腔規(guī)格: 316不銹鋼腔體,,直徑210mm*(深)230mm 約4L
2. 電極:兩個自適應平板電極,材質(zhì)T6061鋁合金(可提供特氟龍包覆無孔平板電極,,適合需要雙面處理樣品)
3. 電極尺寸:120*135mm 間距20~75mm 可調(diào)(可反轉(zhuǎn))
4. 等離子體發(fā)生器:RF射頻發(fā)生器,,頻率:13.56MHz
5. 功率:0-500W連續(xù)可調(diào),自動阻抗匹配,,精度1W
6. 氣體控制:針式氣體流量閥,,標配1路氣體,全不銹鋼管道和連接件
7. 控制方式:4.3寸工業(yè)控制觸摸屏
控制軟件功能:界面顯示實時工作狀態(tài),,
可顯示設(shè)置值與實際值,,便于實時控制。
可自由設(shè)置等離子功率,,通入氣體時間
多級操作權(quán)限,,多種工藝參數(shù)組合控制,
全手動控制和全自動控制可選
8. 保護裝置:一鍵急停保護按鈕
(如需其他功能,,請咨詢銷售人員)
應用領(lǐng)域:
配置不同模塊,,拓展不同應用
加熱電極模塊-溫度可控,可以加速等離子體處理速度和極大提高樣品處理的均勻性
沉積鍍膜模塊,,改變表面特性:
沉積CF材料,,樣品表面可以具有憎水的特性
沉積含苯材料,樣品表面起到絕緣防水的特性
沉積含有羥基的材料,,提高樣品表面和其他材料的結(jié)合效果
感應耦合模塊-感應耦合等離子體裝置
氣體混合裝置
可以根據(jù)可以要求進行混氣設(shè)計
氣體純化和反應
氣體純化和使用等離子體與相關(guān)材料進行化學反應
暫無數(shù)據(jù),!