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PLUTO-M型等離子體表面處理系統(tǒng)是針對于高校,，科學(xué)研究所和企業(yè)實驗室，或者小批量生產(chǎn)的創(chuàng)新性企業(yè)而研發(fā)的創(chuàng)新型實驗平臺,。我們收集了大量客戶使用信息,，分析應(yīng)用需求，將多年設(shè)計和制造經(jīng)驗應(yīng)用于小型化,，多功能的等離子體表面處理設(shè)備,。無論是設(shè)計理念，零配件的選用,，都傾注大量精力,。
針對用戶不同的需求，我們提供對應(yīng)配件,，在獲得常規(guī)性能的同時,，擁有表面鍍膜（涂層）,，刻蝕，等離子化學(xué)反應(yīng),，粉體等離子體處理等多種能力,。
產(chǎn)品特點：
等離子源采用頻率為13.56MHz射頻發(fā)生器，同時具備物理清洗和化學(xué)清洗能力,。
電源功率為200W,，覆蓋常規(guī)處理需求
創(chuàng)新設(shè)計，可調(diào)整電極之間距離,，調(diào)整等離子體濃度和強度,，極大提升處理效率和能力
真空腔體和管道連接件均采用316不銹鋼，電極6061航空鋁合金,，配件材質(zhì)精良,，保證設(shè)備穩(wěn)定高效運行
樣品處理面積可達125mm（處理面積可達200mm，如有需求請咨詢銷售人員）
4.3寸工業(yè)級觸摸屏,，操作簡單,，可設(shè)置多種實驗參數(shù)
性能穩(wěn)定可靠,，質(zhì)量穩(wěn)定,，自主研發(fā)，售后有保障
產(chǎn)品參數(shù):
1.真空腔規(guī)格: 316不銹鋼腔體,，直徑210mm*(深)230mm 約4L
2.電極：兩個自適應(yīng)平板電極,，材質(zhì)T6061鋁合金
3.電極尺寸：120*135mm 間距20~75mm 可調(diào)
4.等離子體發(fā)生器：RF射頻發(fā)生器，頻率：13.56MHz
5.功率：0-200W連續(xù)可調(diào),，精度1W
6.氣體控制：針式氣體流量閥,，標配1路氣體
7.控制方式：4.3寸工業(yè)控制觸摸屏
控制軟件功能：界面顯示實時工作狀態(tài)，
可顯示設(shè)置值與實際值,，便于實時控制,。
可自由設(shè)置等離子功率，通入氣體時間
全手動控制和全自動控制可選
8.保護裝置：一鍵急停保護按鈕
暫無數(shù)據(jù),！
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