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ES01是針對科研和工業(yè)環(huán)境中薄膜測量推出的高精度全自動光譜橢偏儀,，系列儀器的波長范圍覆蓋紫外,、可見到紅外。

ES01系列光譜橢偏儀用于測量單層和多層納米薄膜的層構參數(shù)（如,，厚度）和物理參數(shù)（如,，折射率n、消光系數(shù)k）,，也可用于測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k,。

ES01系列光譜橢偏儀適合于對樣品進行實時和非實時檢測。

特點：

• 原子層量級的檢測靈敏度

  國際先進的采樣方法,、高穩(wěn)定的核心器件,、高質量的設計和制造工藝實現(xiàn)并保證了能夠測量原子層量級的納米薄膜，膜厚精度達到0.05nm,。

• 秒級的快速測量

  快速橢偏采樣方法,、高信噪比的信號探測、自動化的測量軟件,，在保證高精度和準確度的同時,，10秒內(nèi)快速完成一次全光譜橢偏測量。

• 一鍵式儀器操作

  對于常規(guī)操作,，只需鼠標點擊一個按鈕即可完成復雜的測量,、建模、擬合和分析過程,，豐富的模型庫和材料庫也同時方便了用戶的高級操作需求,。

應用：

ES01系列尤其適合于科研和工業(yè)產(chǎn)品環(huán)境中的新品研發(fā)。

ES01系列多種光譜范圍可滿足不同應用場合,。比如：

• ES01V適合于測量電介質材料,、無定形半導體、聚合物等的實時和非實時檢測,。
• ES01U適合于很大范圍的材料種類,，包括對介質材料、聚合物,、半導體,、金屬等的實時和非實時檢測，光譜范圍覆蓋半導體的臨界點,，這對于測量和控制合成的半導體合金成分非常有用。并且適合于較大的膜厚范圍（從次納米量級到10微米左右）,。

ES01系列可用于測量光面基底上的單層和多層納米薄膜的厚度,、折射率n及消光系數(shù)k。應用領域包括：微電子,、半導體,、集成電路,、顯示技術、太陽電池,、光學薄膜,、生命科學、化學,、電化學,、磁介質存儲、平板顯示,、聚合物及金屬表面處理等,。典型應用如：

• 半導體：如：介電薄膜、金屬薄膜,、高分子,、光刻膠、硅,、PZT膜,，激光二極管GaN和AlGaN、透明的電子器件等）,；
• 平板顯示：TFT,、OLED、等離子顯示板,、柔性顯示板等,；
• 功能性涂料：增透型、自清潔型,、電致變色型,、鏡面性光學涂層，以及高分子,、油類,、Al2O3表面鍍層和處理等；
• 生物和化學工程：有機薄膜,、LB膜,、SAM膜、蛋白子分子層,、薄膜吸附,、表面改性處理、液體等,。

ES01系列也可用于測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k,。應用領域包括：固體（金屬、半導體,、介質等）,，或液體（純凈物或混合物）,。典型應用包括：

• 玻璃新品研發(fā)和質量控制等。

技術指標：

注：(1)測量重復性：是指對標準樣品上同一點,、同一條件下連續(xù)測量30次所計算的標準差。