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利用具有高耐用性,、SiC膜和清晰形狀的Ta X射線吸收體的FZP能生產(chǎn)堅(jiān)韌、高精確,、清晰的產(chǎn)品,。
NTT-AT公司的FZP因其高質(zhì)量而在世界上被廣泛用于產(chǎn)品生產(chǎn)。
NTT-AT公司的由SiC膜和Ta吸收體圖案組成的菲涅耳波帶板（FZP）具有出色的高耐X射線輻射性、高分辨率和高對(duì)比度,。
只有NTT-AT公司提供基于SiC膜的菲涅耳波帶板（FZP）具有出色的高耐X射線輻射性,。NTT-AT的FZP由干法蝕刻的Ta組成。吸收體圖案清晰,，S/N比高,，成像缺陷少， 能理想地應(yīng)用于X射線顯微鏡,、X射線微光束輻射和X射線成像,。
另外，還提供用于軟X射線和極紫外（EUV,、XUV）領(lǐng)域的Ta圖案／SiN膜型FZP和Au板圖案／SiN 膜型FZP,。并提供臺(tái)階式（基諾全息照片）FZP。
能用于X射線顯微鏡,、EUV顯微鏡,、X射線微光束輻射和同步加速器輻射光束監(jiān)視等各種X射線應(yīng)用。
出色的高耐X射線輻射性
*小區(qū)域?qū)挾冗_(dá)25納米
可定制FZP
| 型號(hào) | 寬高 比 | 膜 材料 | 膜 厚度 （微米） | ΔRn （納米） | D （微米） | N | Tm （納米） |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| FZP-S38/84 | 4.2 | SiN | 0.15 | 38 | 84 | 550 | 160 |
| FZP-S50/80 | 5 | SiN | 0.2 | 50 | 80 | 400 | 250 |
| FZP-S40/155 | 5 | SiN | 2 | 40 | 155 | 970 | 200 |
| FZP-S50/330 | 8 | SiN | 1 | 50 | 330 | 1,，650 | 400 |
| FZP-S86/416 | 8 | SiN | 2 | 86 | 416 | 1,，200 | 700 |
| FZP-100/155 | 8 | SiN | 2 | 100 | 155 | 388 | 800 |
| FZP-173/208 | 5.8 | SiN | 2 | 173 | 208 | 300 | 1，000 |
| FZP-200/206 | 8 | SiN | 2 | 200 | 206 | 255 | 1,，600 |
| FZP-C234/2500 | 0.6 | SiC | 0.2 | 234 | 2,，500 | 2，670 | 150 |
※規(guī)格可能會(huì)變更,，恕不預(yù)先通告,。
Rn：*外區(qū)域?qū)挾?/span>
D：直徑
N：全區(qū)域
Tm：Ta厚度
可按要求定制設(shè)計(jì)FZP,，滿足用戶的特殊X射線能量、光學(xué)設(shè)置和聚焦、圖像性能,。如果本公司的標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品商品目錄中沒(méi)有所需的產(chǎn)品，
圖案示意圖 （φ2.5mm）（光學(xué)顯微鏡） | 以對(duì)角觀察的SEM圖 （SEM） |
二進(jìn)制型 | 臺(tái)階（基諾全息照片）式 |
| *小區(qū)域?qū)挾龋?外區(qū)域） | 25納米 |
|---|---|
| **直徑 | 5毫米 |
| 膜材料 | SiN,， SiC |
| 膜厚度 | 0.2至2微米 |
| 吸收體材料 | Ta |
| 吸收體厚度 | 0.1至2微米 |
| Si基板形狀 | 10平方毫米 |
| Si基板厚度 | 1毫米 |
※我們可與用戶商討不同需求,。
菲涅耳波帶板（FZP）直徑：250微米，Ta厚度：125納米,，*外區(qū)域?qū)挾龋?5納米,，膜：SiC 2.0微米
菲涅耳波帶板（FZP）直徑：100微米，Ta厚度：2.5微米,，*外區(qū)域?qū)挾龋?50納米,，膜：SiN 2.0微米
菲涅耳波帶板（FZP）直徑：100微米，Ta厚度：4.0微米,，*外區(qū)域?qū)挾龋?00納米,，膜：SiC 2.0微米
菲涅耳波帶板（FZP）中間區(qū)域的SEM 圖：臺(tái)階（基諾全息照片）式菲涅耳波帶板（FZP）,、Ta圖案
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