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濺射設備 MVS

MVS提供單靶材或多靶濺射設備,。可根據(jù)用戶需求定制,。

制備透明導電薄膜 (如ITO,，AZO)。

MVSystems,， Inc. 由曼登博士（Dr. Arun Madan）創(chuàng)建于1989年,。

曼登博士曾在英國丹迪大學從師于斯皮爾（Walter Spear)教授，是1970年代*早從事非晶硅材料和器件研究的人員之一,。

曼登博士在非晶硅薄膜晶體管（TFT)方面進行了開創(chuàng)性的研究,，這是他的博士論文的主要內(nèi)容之一。非晶硅薄膜晶體管現(xiàn)已成為平板顯示器中必不可缺的重要器件,。

公司在薄膜半導體技術和先進的高真空半導體薄膜沉積設備方面擁有14項**,，包括：

多腔室PECVD沉積系統(tǒng) – 主要產(chǎn)品 用于柔性襯底的Reel-to-reel多室系統(tǒng) - 主要產(chǎn)品

碳熱絲化學氣相沉積設備 摻氟納米硅（微晶硅）材料

P型寬帶隙非晶硅材料 摻氟二氧化錫絨面透明導電膜（與日本Asahi公司合作）

公司生產(chǎn)制造的80多臺設備已銷往全世界23個國家和地區(qū)。

公司生產(chǎn)的主要薄膜材料和器件產(chǎn)品包括：

材料

器件

非晶硅（a-Si:H)

薄膜硅太陽電池

納米(微晶)硅 (nc-Si)

薄膜晶體管

氮化硅(SiNx),，氧化硅(SiOx),，氮氧化硅(SiON)

成像器件

氧化鋅(AZO)，銦錫氧化物(ITO),， 二氧化錫(SnO2)

X光探測器

MVSystems公司設計,，制造和提供各類單腔室和多腔室薄膜沉積設備。另外,，根據(jù)用戶的需求,，各種

PECVD，HWCVD,，和PVD腔室可以單個制造,，也可配備到現(xiàn)有的團簇型（星型）或是直線型沉積系。我們公司的工程設計部門盡可能為用戶著想,，以使用戶們獲取他們*需要的且價格合適的設備,。