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又名：掩膜對準(zhǔn)曝光機,，曝光系統(tǒng),，光刻系統(tǒng)，光刻機等,；
全球**的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商,，多年來致力于掩膜對準(zhǔn)光刻機和勻膠機研發(fā)與生產(chǎn)，并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體,、微電子,、生物器件和納米科技領(lǐng)域；該公司是目前世界上*早將光刻機商品化的公司之一,，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力,；并且其設(shè)備被眾多**企業(yè)、研發(fā)中心,、研究所和高校所采用,；依優(yōu)秀的技術(shù)、精湛的工藝和良好的服務(wù),，贏得了用戶的青睞,。
相關(guān)設(shè)備：
甩膠機，甩膜機,，涂膠機,，旋轉(zhuǎn)涂膜機,，勻膜機，清洗機,，顯影機等,；
技術(shù)參數(shù)：
基片尺寸：4、6,、8,、12、25英寸,，其他要求支持,；
光束均勻性：<±3%；
曝光時間可調(diào)范圍：0.1 to 999.9秒,；
對準(zhǔn)精度：1微米,，**0.5微米；
分辨率：1微米,；
光束輸出強度：15-25mW/cm2,；
主要特點：
光源強度可控；
紫外,、深紫外曝光,；
系統(tǒng)控制：手動、半自動和全自動控制,；
曝光模式：真空接觸模式（接觸力可調(diào)）,，Proximity靠近模式， 投影模式,；
真空吸盤范圍可調(diào),；
**技術(shù)：雙面對準(zhǔn)！
雙重顯微鏡系統(tǒng),，**放大1600倍,；
暫無數(shù)據(jù)！
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