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蔭罩掩膜對準(zhǔn)器 Shadow Mask Aligner
設(shè)備簡介:
本設(shè)備可以用于精確和可重建性的對準(zhǔn)蔭罩掩膜和晶圓,。可以放于真空腔體用于PVD工藝,。沉積后,,夾盤可以打開,晶圓和掩膜可以不破壞的分離,,并且掩膜板可以重復(fù)利用,。
夾盤可以用于任何基底尺寸以滿足用戶的要求,并且我們也可以提供精確和經(jīng)濟(jì)的由金屬,、硅,、玻璃、陶瓷等制造的蔭罩掩膜,。
產(chǎn)品型號:SMA-100,,SMA-150,SMA-200
晶圓和蔭罩尺寸:100mm,,150mm,,200mm,取決于設(shè)備的配置
樣品臺特征:
X和Y方向范圍:步進(jìn)10μm,,靈敏度2μm
Z方向范圍:步進(jìn)10μm,,靈敏度2μm
旋轉(zhuǎn)角度:360°不間斷
傾斜:工廠校準(zhǔn),工程師手動調(diào)節(jié)
對準(zhǔn)精度(濺射后)
線性對準(zhǔn):典型值6μm,, ZUI大值10μm
旋轉(zhuǎn)對準(zhǔn):0.001°到0.009°
夾盤
晶圓尺寸:100mm,,150mm,,200mm
夾盤材料:陽極氧化鋁或非陽極氧化鋁
夾盤厚度:20mm取決于晶圓和掩膜的厚度
蔭罩掩膜(客戶可定制蔭罩掩膜)
材料:硅、石英,、玻璃,、金屬、陶瓷
儀器尺寸:500mm x 250mm
安裝需求:用于對準(zhǔn)過程中用來觀察的顯微鏡,、真空
注:可以根據(jù)用戶的需求進(jìn)行定制,。
優(yōu)點(diǎn):
精確和可重建性的PVD涂層構(gòu)建
用于PVD的減震夾盤
易用、對晶圓無損夾持機(jī)構(gòu)
由于真空夾持,,可以在對準(zhǔn)的過程簡單操作
可以用于不同的晶圓尺寸
不需要安裝
低運(yùn)行成本
暫無數(shù)據(jù),!