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Murano 加熱臺，型號 525

        許多冶金與材料科學(xué)研究都能從直接觀察樣品在 SEM 內(nèi)的加熱實(shí)驗(yàn)中獲益,。新型 Murano 加熱臺能夠使我們動態(tài)地觀察樣品在加熱過程中的相變,、再結(jié)晶、晶粒生長與氧化現(xiàn)象,。

圖1. 配有　EBSD,、FIB 和SED 的 SEM 艙室。  

        該加熱臺經(jīng)精心設(shè)計,，能方便地與大多數(shù)掃描電鏡的標(biāo)準(zhǔn)樣品臺接口,，它包含一個絕熱接口，適用于二次電子成像,、電子背散射衍射 (EBSD) 與聚焦離子束 (FIB) 加工。

        樣品臺的溫度范圍涵蓋室溫到 950 °C,。要進(jìn)行催化,、還原或氧化反應(yīng)，可選配一個毗鄰樣品的毛細(xì)管,，進(jìn)行氣體注入,。通過毛細(xì)管的外部氣體流量用法蘭上的針閥來控制。

       水冷底座與屏蔽用來保護(hù) SEM 的內(nèi)部艙室及其周圍的探測器,。每套系統(tǒng)都配有一個與安全流量開關(guān)互鎖的低振動熱交換器，以及電源和基于 PC 的溫度控制器,。

        接口法蘭上有一個積分偏壓控制,，用于抑制加熱過程中熱電子的發(fā)射，同時促進(jìn)二次電子的采集,。從而獲得加熱條件下的性能,。

        樣品加熱平臺是消耗材料,，它是為方便樣品的裝載而精心設(shè)計的,。記錄軟件允許記錄每一溫度下的時間戳,。

        當(dāng)與 DigiScan? 數(shù)字電子束控制與圖像處理系統(tǒng)一起使用時，Murano 加熱臺的溫度數(shù)據(jù)能夠“印記”在實(shí)驗(yàn)圖像上和通過 Gatan In-situ 視頻軟件記錄的視頻上,。

        Murano 加熱臺開辟了原位實(shí)驗(yàn)的新方法，使我們用一個試樣在一次　SEM 實(shí)驗(yàn)中就可以研究試樣加熱的全過程,。它使我們能夠快速地表征試樣,，而無須制備多個試樣，同時能保證要研究的感興趣區(qū)的連續(xù)性,。

圖3,，顯示從945°C到880°C 奧氏體向鐵素體轉(zhuǎn)變的 EBSD 相分布圖，奧氏體為藍(lán)色(暗),，鐵素體為紅色(亮),。測試僅用了一個低碳鋼試樣，加熱到945°C,，然后以每分鐘 1°C 的速度冷卻,，直到觀察到相變開始。一旦相變開始,，保溫以觀察單個晶粒中相的變化過程,，然后，再次冷卻,。數(shù)據(jù)由Oxford Instruments 的 Singh Ubhi博士提供,。