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儀器名稱:全自動離子濺射儀 型號:ETD-800
原理:二極直流濺射
儀器名稱:離子濺射儀 型號:ETD-900M
原理:磁控濺射
在磁控濺射中,由于運(yùn)動電子在磁場中受到洛侖茲力,,它們的運(yùn)動軌跡會發(fā)生彎曲甚至產(chǎn)
生螺旋運(yùn)動,,其運(yùn)動路徑變長,因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數(shù),,使等離子體密度增大,,從而磁控濺射速率得到很大的提高,而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作,。同時,,經(jīng)過多次碰撞而喪失能量的電子到達(dá)陽極時,已變成低能電子,,從而不會使基片過熱,。
ETD-800參數(shù):
主機(jī)規(guī)格:260mm×307mm×260mm(W×D×H)
電源規(guī)格:220V/50HZ
靶(上部電極):50mm×0.1mm(D×H)
靶材:Au
真空樣品室: 硼硅酸鹽玻璃 115mm×100mm(D×H)
定時器: *長時間:3600S
機(jī)械泵: 1L/S
**電壓:-1200 DCV
ETD-900M參數(shù):
主機(jī)規(guī)格:300mm×360mm×380mm(W×D×H)
靶(上部電極):50mm×0.1mm(D×H)
靶材:Au(標(biāo)配)
樣品室:硼硅酸鹽玻璃 160mm×120mm(D×H)
靶材尺寸:Ф 50mm
真空指示表: **真空度:≤ 4X10-2 mbar
離子電流表: **電流:50mA
定時器: *長時間:0-360S ?
微型真空氣閥:可連接φ 3mm 軟管
可通入氣體: 多種
**電壓: -1600 DCV ?
機(jī)械泵:標(biāo)準(zhǔn)配置 2L/S(國產(chǎn) VRD-8)
ETD-800用途:
適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡(SEM)樣品制備。
特點:
可以通過更換不同的靶材(金,、鉑,、銀等),以達(dá)到更細(xì)顆粒的涂層,。
一鍵式操作,,使用方便。
ETD-900M用途:
適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡(SEM)樣品制備,非導(dǎo)體材料實驗電極制作,。
特點:
1,、簡單、經(jīng)濟(jì),、可靠,、外觀精美。
2,、可調(diào)節(jié)濺射電流和真空室壓強(qiáng)以控制鍍膜的速率和顆粒的大小,。
3、SETPLASMA 手動啟動按鈕可預(yù)先設(shè)置好壓強(qiáng)和濺射電流避免對膜造成不必要的損傷,。
4,、真空保護(hù)可避免真空過低造成設(shè)備短路。
5,、同時可以通過更換不同的靶材(金,、鉑、銥,、銀,、銅等),以達(dá)到更細(xì)顆粒的涂層,。
6,、通過通入不同的惰性氣體以達(dá)到更純凈的涂層。
暫無數(shù)據(jù),!
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