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北京樣本
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圖像分析分散方式:
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儀器名稱:全自動(dòng)離子濺射儀 型號(hào):ETD-800
原理:二極直流濺射
儀器名稱:離子濺射儀 型號(hào):ETD-900M
原理:磁控濺射
在磁控濺射中,由于運(yùn)動(dòng)電子在磁場中受到洛侖茲力,,它們的運(yùn)動(dòng)軌跡會(huì)發(fā)生彎曲甚至產(chǎn)
生螺旋運(yùn)動(dòng),,其運(yùn)動(dòng)路徑變長,因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數(shù),,使等離子體密度增大,,從而磁控濺射速率得到很大的提高,,而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作。同時(shí),,經(jīng)過多次碰撞而喪失能量的電子到達(dá)陽極時(shí),,已變成低能電子,從而不會(huì)使基片過熱,。
ETD-800參數(shù):
主機(jī)規(guī)格:260mm×307mm×260mm(W×D×H)
電源規(guī)格:220V/50HZ
靶(上部電極):50mm×0.1mm(D×H)
靶材:Au
真空樣品室: 硼硅酸鹽玻璃 115mm×100mm(D×H)
定時(shí)器: *長時(shí)間:3600S
機(jī)械泵: 1L/S
**電壓:-1200 DCV
ETD-900M參數(shù):
主機(jī)規(guī)格:300mm×360mm×380mm(W×D×H)
靶(上部電極):50mm×0.1mm(D×H)
靶材:Au(標(biāo)配)
樣品室:硼硅酸鹽玻璃 160mm×120mm(D×H)
靶材尺寸:Ф 50mm
真空指示表: **真空度:≤ 4X10-2 mbar
離子電流表: **電流:50mA
定時(shí)器: *長時(shí)間:0-360S ?
微型真空氣閥:可連接φ 3mm 軟管
可通入氣體: 多種
**電壓: -1600 DCV ?
機(jī)械泵:標(biāo)準(zhǔn)配置 2L/S(國產(chǎn) VRD-8)
ETD-800用途:
適用于電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡(SEM)樣品制備,。
特點(diǎn):
可以通過更換不同的靶材(金、鉑,、銀等),,以達(dá)到更細(xì)顆粒的涂層。
一鍵式操作,,使用方便,。
ETD-900M用途:
適用于電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡(SEM)樣品制備,非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極制作,。
特點(diǎn):
1、簡單,、經(jīng)濟(jì),、可靠、外觀精美,。
2,、可調(diào)節(jié)濺射電流和真空室壓強(qiáng)以控制鍍膜的速率和顆粒的大小。
3,、SETPLASMA 手動(dòng)啟動(dòng)按鈕可預(yù)先設(shè)置好壓強(qiáng)和濺射電流避免對(duì)膜造成不必要的損傷,。
4、真空保護(hù)可避免真空過低造成設(shè)備短路,。
5,、同時(shí)可以通過更換不同的靶材(金、鉑,、銥,、銀、銅等),,以達(dá)到更細(xì)顆粒的涂層,。
6、通過通入不同的惰性氣體以達(dá)到更純凈的涂層,。
暫無數(shù)據(jù),!
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