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掃描電鏡和氬離子拋光儀在電子器件失效分析中的應用案例

電子器件失效的原因千千萬，其中引線框架表面的氧化狀態(tài),，對器件的焊接有直接的影響,。銅基框架表面接觸氧氣和水氣,，極容易被氧化,，對后期器件焊接或者打線會產生負面的影響,，所以需要關注框架銅表面的狀態(tài)，借助掃描電鏡（SEM）和能譜（EDS）抽檢以保證品質極其重要,。

在進行電子器件失效分析時,，首先觀察失效件表面的微觀形貌，飛納臺式掃描電鏡集成有背散射（BSD,，明暗襯度明顯的成分像）和二次電子（SED,，立體形貌像）兩種成像模式，兩種模式各有特點,，可以呈現(xiàn)不同的細節(jié)信息,。

經過一次回流焊后銅框架表面氧化和其他揮份污染，變?yōu)榘导t色,，焊接性能大大降低,。飛納掃描電鏡可以設置同時采集 BSD 成分像和 SED 形貌像信號，可以提供 Mix（50%BSD + 50%SED,，比例可以自選）模式,，同時結合兩者優(yōu)點，形貌和成分兼顧,。通過 Mix 模式圖,，可以清晰看到高溫之后框架上表面暗紅色部位的形貌，推測為銅氧化“鍍層”,，經過測量厚度約為 273nm,，結合掃描電鏡的能譜 EDS 成分信息分析，主要為銅,、氧,、碳及其他少量元素。

在對焊接部位的焊接情況進行分析時,，需要觀測該部位剖面的合金相分布情況,，此時需要用到截面切削的制樣設備--氬離子拋光儀,，進行無應力樣品切削制備后,，使用掃描電鏡進一步分析焊接情況。

飛納掃描電鏡提供的 Mix 模式兼顧 BSD & SED 形貌和成分,，氬離子拋光儀切削后的焊錫截面內可以看到氣孔（~1微米）和近銅界面的合金相,。

Mix 模式離子拋光前后對比

進一步結合 EDS 能譜面掃分析可知：銀-錫膏和銅面結合，界面有銅-錫為主合金化晶粒生長,，銅引腳有鍍鎳層,，并在內部發(fā)現(xiàn)有大量的鐵富集相夾雜，近銅界面發(fā)現(xiàn)有氣孔存在,。

焊錫截面 EDS 能譜面掃結果

電子元器件的失效原因有很多,，本次分享的案例中主要關注引線框架表面的氧化狀態(tài),。本案例中使用氬離子拋光儀的制樣方法，搭配飛納掃描電鏡（SEM-EDS）,，結合掃描電鏡的背散射電子像,、二次電子像、Mix 模式像以及能譜元素分析結果,，清晰觀測了失效位置的形貌,、相組成，并結合元素組成成分綜合分析了元器件失效的情況,。