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【會(huì)議邀請(qǐng)】第七屆中科院電鏡技術(shù)聯(lián)盟交流年會(huì)

復(fù)納科技 2023-06-20 | 閱讀：965

第七屆中科院電鏡技術(shù)聯(lián)盟交流年會(huì)由中國(guó)科學(xué)院電鏡技術(shù)聯(lián)盟及中國(guó)科學(xué)院大連化學(xué)物理研究所主辦,，旨在加強(qiáng)中科院系統(tǒng)內(nèi)部電鏡儀器,、技術(shù)和相關(guān)應(yīng)用的交流與合作，滿足科學(xué)院內(nèi)部不同實(shí)驗(yàn)室的分析測(cè)試需求,，充分發(fā)揮電鏡設(shè)備的作用,，進(jìn)一步推動(dòng)科學(xué)院在顯微分析領(lǐng)域的發(fā)展。此次年會(huì)將邀請(qǐng)來自國(guó)內(nèi)外的學(xué)術(shù)專家,、工程師和科研人員,，共同分享他們?cè)陔婄R技術(shù)及相關(guān)領(lǐng)域的最新研究成果、技術(shù)進(jìn)展和應(yīng)用案例,。

復(fù)納科技將攜手最新的科學(xué)儀器產(chǎn)品和解決方案參與本次會(huì)議,，誠(chéng)摯邀請(qǐng)來自學(xué)術(shù)界和工業(yè)界的專家學(xué)者們蒞臨我們的展位參觀交流！

會(huì)議時(shí)間：2023 年 6 月 25 日- 27 日（25 日為會(huì)議報(bào)道）

復(fù)納科技展位：C5

會(huì)議地點(diǎn)：中國(guó)科學(xué)院大連化學(xué)物理研究所

參會(huì)路線圖如下：

年會(huì)主會(huì)場(chǎng)位于編號(hào) 7 會(huì)議中心處,，年會(huì)分會(huì)場(chǎng)位于編號(hào) 17 交流中心處,。復(fù)納科技展位設(shè)置在年會(huì)主會(huì)場(chǎng)內(nèi)。

復(fù)納科技參展產(chǎn)品

PRODUCTS

01 DENSsolutions TEM 原位實(shí)驗(yàn)樣品桿

DENS 系列產(chǎn)品可以為原位 TEM 樣品施加外界刺激,，捕捉 TEM 樣品在真實(shí)環(huán)境下的動(dòng)態(tài)現(xiàn)象,。目前提供的四種原位實(shí)驗(yàn)方案：Climate TEM 原位氣相加熱方案和 Stream TEM 原位液相加熱 / 加電方案,、Wildfire TEM 原位加熱方案、Lightning TEM 原位熱電方案,、可以在 TEM 中引入氣,、液、熱,、電等多種狀態(tài),。

同時(shí)，在本次會(huì)議中 DENSsolutions 周丹博士將在分會(huì)場(chǎng)帶來《氣相原位 TEM 中的溫度測(cè)量和時(shí)間延遲校正》的主題報(bào)告,，探討 TEM 原位氣相實(shí)驗(yàn)技術(shù)的新進(jìn)展,。

報(bào)告地點(diǎn)：年會(huì)分會(huì)場(chǎng)

報(bào)告時(shí)間：6 月 26 日 16:30-16:50

02 Phenom 飛納臺(tái)式掃描電鏡

飛納臺(tái)式掃描電鏡操作簡(jiǎn)單，效率高,，成像質(zhì)量高,，其優(yōu)異的低真空模式可實(shí)現(xiàn)無需噴金直接觀察不導(dǎo)電樣品。最新的第二代場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡 Phenom Pharos G2 分辨率優(yōu)于 1.5nm,，是分辨率最高的臺(tái)式掃描電鏡,，是納米材料表征的強(qiáng)有力工具。

03 TEM/SEM 樣品制備設(shè)備

Technoorg Linda 系列產(chǎn)品是用于 SEM/TEM 樣品表面處理和無應(yīng)力加工的設(shè)備,。Technoorg Linda 采用離子束技術(shù),，通過控制離子束的能量和角度，以及全球獨(dú)家的超高能離子槍和低能離子槍,，可對(duì)樣品進(jìn)行快速研磨及表面精細(xì)加工和最終拋光,。其主要應(yīng)用領(lǐng)域包括材料科學(xué)研究、納米器件制造,、半導(dǎo)體工業(yè)等,，為眾多領(lǐng)域提供高精度、高效率的表面處理解決方案,。

04 NEOSCAN 臺(tái)式顯微 CT

NEOSCAN 臺(tái)式顯微 CT 采用先進(jìn)的 X 射線成像技術(shù),，結(jié)合精密的機(jī)械系統(tǒng)和圖像重建算法，能夠非破壞性地獲取樣品的內(nèi)部結(jié)構(gòu)信息,。

NEOSCAN 臺(tái)式顯微 CT 的主要特點(diǎn)包括高分辨率成像,、對(duì)場(chǎng)地要求少、免維護(hù),、易于操作等,。相較于傳統(tǒng)的大型 CT 設(shè)備，NEOSCAN 臺(tái)式顯微 CT 更加緊湊便攜,，廣泛適用于實(shí)驗(yàn)室,、研究機(jī)構(gòu)、工業(yè)生產(chǎn)的日常使用。

05 Forge Nano 原子層沉積包覆方案

Forge Nano 粉末包覆技術(shù)是一種基于原子層沉積（ALD）的粉末顆粒表面涂層技術(shù),，它可在納米尺度上實(shí)現(xiàn)對(duì)粉末顆粒的均勻,、精確的涂層包覆，有助于提高材料的性能和穩(wěn)定性,。Forge Nano 的粉末包覆技術(shù)可實(shí)現(xiàn)涂層保形,、均勻等特點(diǎn)、在催化劑,、電池材料、陶瓷材料等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用,，為這些領(lǐng)域的研究和工業(yè)生產(chǎn)提供了先進(jìn)的涂層解決方案,。

06 VSParticle 納米氣溶膠沉積系統(tǒng)

VSParticle 設(shè)備采用火花燒蝕（Spark Ablation）技術(shù)來制備納米顆粒，與其他物理氣相沉積方法不同,，火花燒蝕可在常壓下進(jìn)行,，利用惰性氣體作為介質(zhì)輸送納米顆粒，擺脫真空系統(tǒng)的限制,，具備更高的靈活性,。同時(shí)可通過搭載系列配套的配件，實(shí)現(xiàn)納米顆粒粒徑控制,、納米合金制備,、顆粒印刷沉積，為科學(xué)研究和工業(yè)應(yīng)用提供了高效,、可控的納米顆粒全自動(dòng)研究平臺(tái),。