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IKN研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力,，采用德國先進技術(shù),，整機一體化，功能模塊化,，創(chuàng)新設(shè)計,，靈活高效；有著高精度的設(shè)計,，內(nèi)部的角度,、溝槽、間距選擇十分科學(xué)高效,；內(nèi)部工作組可以一級,、二級、三級,、四級....可以滿足不同物料的要求

IKN研磨分散機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn),，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定,、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力,、摩擦力、高頻振動等物理作用,，使物料被有效地乳化,、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及研磨的效果,。

上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料,。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下,。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低,，保證機器連續(xù)24小時不停機運行,。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良，將單一的膠體磨磨頭模塊,，改良成兩級模塊,，加入了一級分散盤?？筛鶕?jù)物料要求進行更換（我們提供了2P,，2G，4M,，6F,，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） IKN研磨分散機可以高速研磨，分散,，乳化,，均質(zhì)等功能，設(shè)備轉(zhuǎn)速可達14000rpm,，是目前國產(chǎn)設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍,。

碳納米管NMP漿料 

碳納米管作為一維納米材料，重量輕,，六邊形結(jié)構(gòu)連接**,，具有許多異常的力學(xué)、電學(xué)和化學(xué)性能,。近些年隨著碳納米管及納米材料研究的深入其廣闊的應(yīng)用前景也不斷地展現(xiàn)出來,。

碳納米管，又名巴基管,，是一種具有特殊結(jié)構(gòu)（徑向尺寸為納米量級,，軸向尺寸為微米量級，管子兩端基本上都封口）的一維量子材料,。碳納米管主要由呈六邊形排列的碳原子構(gòu)成數(shù)層到數(shù)十層的同軸圓管,。層與層之間保持固定的距離，約0.34nm,，直徑一般為2~20 nm,。并且根據(jù)碳六邊形沿軸向的不同取向可以將其分成鋸齒形、扶手椅型和螺旋型三種,。其中螺旋型的碳納米管具有手性,，而鋸齒形和扶手椅型碳納米管沒有手性,。

一、碳納米管分散技術(shù)三要素

二,、分散劑用量推薦

三、碳納米管水分散劑（TNWDIS）概述

四,、超聲波分散設(shè)備使用建議及分散實例

五,、研磨分散設(shè)備使用建議

碳納米管分散技術(shù)三要素：分散介質(zhì)、分散劑和分散設(shè)備

1,、分散介質(zhì)

（1）根據(jù)粘度不同,，分散介質(zhì)分為高粘度、中粘度和低粘度三種,。在低粘度介質(zhì)中,，如水和有機溶劑，碳納米管易于分散,。中粘度介質(zhì)如液態(tài)環(huán)氧樹脂,、液態(tài)硅橡膠等，高粘度介質(zhì)如熔融態(tài)的塑料,。

（2）此處介紹的碳納米管分散技術(shù),，針對中、低粘度分散介質(zhì),。

2,、分散劑

（1）分散劑的選擇，與分散介質(zhì)的結(jié)構(gòu),、極性,、溶度參數(shù)等密切相關(guān)。

（2）分散劑的用量,，與碳納米管比表面積和共價鍵修飾的功能基團有關(guān),。

（3）水性介質(zhì)中，推薦使用TNWDIS,。強極性有機溶劑中,，如醇、DMF,、NMP,， 推薦使用TNADIS。中等極性有機溶劑如酯類,、液態(tài)環(huán)氧樹脂,、液態(tài)硅橡膠，推薦使用TNEDIS ,。

3,、分散設(shè)備

（1）超聲波分散設(shè)備：非常適合實驗室規(guī)模,、低粘度介質(zhì)分散碳納米管，用于中,、高粘度介質(zhì)時會受到限制,。

（2）研磨分散設(shè)備：適合大規(guī)模地分散碳納米管、中粘度介質(zhì)分散碳納米管,。

（3）采用“先研磨分散,、后超聲波分散”組合方法，可以高效,、穩(wěn)定地分散碳納米管

分散劑用量推薦,。

1、碳納米管比表面積與分散劑用量

我們試劑級碳納米管分為單壁管（外徑<2nm）和多壁管,。多壁管根據(jù)外徑不同,，分為TNM1（外徑50nm）。隨著外徑的增加,，碳納米管的比表面積減小

TNWDIS推薦用量：單壁管重量的3.5倍,， TNM1 重量的1.0倍， TNM8 重量的0.2倍,。其余用量參考調(diào)整

2,、碳納米管功能化與分散劑用量

功能化后的碳納米管，更容易在水中分散,。 通常,，碳納米管羧基功能化后，分散劑的用量可以減少50%

TNWDIS推薦用量：羧基化單壁管重量的1.5-1.8倍,， 羧基化TNM1 重量的0.5倍,， 羧基化TNM8 重量的0.1倍

3、對于TNADIS,， TNM8 的推薦用量是重量的0.2倍,。對于TNEDIS, TNM8 的推薦用量是重量的0.8倍

5%碳納米管NMP漿料研磨分散機

在做納米粉體分散或研磨時，因為粉體尺度由大變小的過程中,，范德華力及布朗運動現(xiàn)象逐漸明顯且重要,。選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當(dāng)?shù)难心C來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運動影響，是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù),。
    

研磨機 和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品,。 

    **級由具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離,。在增強的流體湍流下,，凹槽在每級都可以改變方向。

    第二級由轉(zhuǎn)定子組成,。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要,。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度,、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù),、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能,。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用,。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,，因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要,。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000系列的線速度很高,，剪切間隙非常小,，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈,，結(jié)果就是通常所說的濕磨,。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽,。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離,。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向,。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

IKN石墨烯研磨設(shè)備采用德國先進的高速研磨分散技術(shù),，通過超高轉(zhuǎn)速（**可達14000rpm）帶動超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子（通常配CM+8SF,，定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間）使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流，在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊,、破碎,、研磨、分散,、均質(zhì),，從而得出超細的顆粒（當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑）。綜合以上幾點可以得出理想的導(dǎo)電石墨烯漿料,。