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納米氧化鋅粒徑介于1-100 nm之間,是一種面向21世紀(jì)的新型高功能精細(xì)無(wú)機(jī)產(chǎn)品,表現(xiàn)出許多特殊的性質(zhì),如非遷移性,熒光性,壓電性,吸收和散射紫外線能力等,利用其在光,電,磁,敏感等方面的奇妙性能,可制造氣體傳感器,熒光體,變阻器,圖像記錄材料,壓電材料,壓敏電阻,高效催化劑,磁性材料和等,。

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納米氧化鋅的分散難點(diǎn)：納米氧化鋅分散到水中或者溶劑當(dāng)中,容易出現(xiàn)抱團(tuán)的現(xiàn)象,導(dǎo)致物料粒徑變大,分散效果不佳,產(chǎn)品改性不充分,。

如果使用普通的分散設(shè)備,很難將納米氧化鋅分散均勻,會(huì)出現(xiàn)團(tuán)聚的現(xiàn)象,團(tuán)聚體難以打開,而如果采用IKN**研發(fā)的分散設(shè)備,研磨分散機(jī)的話,先研磨后分散機(jī),解決團(tuán)聚問題,可達(dá)納米氧化鋅還原至納米級(jí),。

IKN研磨式分散機(jī),是由 分散機(jī)結(jié)合而成的設(shè)備,主要是為了解決納米級(jí)物料的分散,如：納米,納米氫氧化鎂,納米氧化鋁,石墨烯,碳納米管等納米級(jí)物料的分散。

CMD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料,。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變跟為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì),。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

CMD2000系列超高速納米氧化鋅研磨分散機(jī)的特點(diǎn)：

① 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨

② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

③ 定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④ 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向,。

⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求,。