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實驗室研磨分散機(jī)，實驗室研磨機(jī),，實驗室分散機(jī),，小型研磨分散機(jī)，研發(fā)用研磨分散機(jī)

CMD2000/4是一款應(yīng)用于實驗室小試和中試的設(shè)備,，集研磨,、分散、均質(zhì),、乳化于一體,，在多個領(lǐng)域和行業(yè)有著突出的應(yīng)用。如化工行業(yè)：白炭黑,、環(huán)氧樹脂等超細(xì)研磨分散機(jī),；食品行業(yè)：植物蛋白飲料、膠原蛋白提取等,；都可以獲得良好的研磨分散細(xì)化的效果,。

CMD2000/4實驗室研磨分散機(jī)，電機(jī)功率：2.2kw,，轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm,，處理在0-200L，設(shè)備體積較小,，可直接放置實驗臺上操作,。專為實驗室研發(fā)，模擬生產(chǎn)流程,，為量產(chǎn)提供可靠的數(shù)據(jù)論證,。該中試型型機(jī)器和大型量產(chǎn)機(jī)型配置相同，且分散頭的種類及相應(yīng)線速度也相同,，中試過程中的工藝參數(shù)在量產(chǎn)化之后不要重新調(diào)整,，而將機(jī)器型號升級過程中的風(fēng)險降到*低,。

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CMD2000/4實驗室研磨分散機(jī)是由膠體磨+分散機(jī)一體化而成的設(shè)備，先研磨后分散,，效率高效果好,。CMD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料,。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P,，2G,，4M，6F,，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

**級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽,。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,，凹槽在每級都可以改變方向,。 

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要,。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度,、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù),、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能,。